Gepulste HF-GDOES-Instrumentierung
GDOES ist eine Analysetechnik, die eine ultraschnelle Element-Tiefenprofilanalyse von Schichtmaterialien ermöglicht und gleichzeitig die quantitative Messung aller Elemente und der Schichtdicke mit nanometergenauer Tiefenauflösung erlaubt. Die gepulsten HF-GDOES-Geräte von HORIBA mit Differenzialinterferometrie-Profilierung (DiP) sind die idealen Werkzeuge zur Charakterisierung von Materialien und zur Prozessentwicklung.
Die innovative gepulste HF-Quelle ermöglicht die Profilierung aller Arten von Feststoffproben mit optimaler Leistung, vom ersten Nanometer bis über 150 μm. Polymere Materialien lassen sich leicht mit patentiertem Ultra Fast Sputtering (UFS) sputtern. Darüber hinaus kann diese Quelle auch zur Vorbereitung von Probenoberflächen für die Rasterelektronenmikroskopie (SEM) verwendet werden.
Alle Elemente können gemessen werden, darunter Wasserstoff, Deuterium, Lithium, Kohlenstoff, Stickstoff, Sauerstoff und mehr.
Das patentierte Differentialinterferometrie-Profiling (DiP) ermöglicht eine direkte Messung der Tiefe als Funktion der Zeit mit nanometrischer Präzision, die gleichzeitig mit der GD-Analyse durchgeführt wird.
Die patentierten High Dynamic Range Detectors (HDD), die in allen HORIBA GD-Instrumenten verwendet werden, ermöglichen eine Echtzeit-Optimierung der Empfindlichkeit, die Analyse von Elementen auf Spurniveaus in einer Schicht und ebenso wichtig in einer zweiten Schicht, ohne Kompromisse oder Anpassungen.