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Erfahren Sie mehr über spektroskopische Ellipsometrie, indem Sie sich Bildungsvideos ansehen und einige der Anwendungen in unserer Sammlung von Webinaren entdecken.
Die spektroskopische Ellipsometrie ist eine oberflächensensitive, zerstörungsfreie und nicht-invasive optische Technik, die weit verbreitet für dünne Schichten und Oberflächencharakterisierung eingesetzt wird. Sie basiert einfach auf der Änderung des Polarisationszustands des Lichts, wenn es schräg von einer Dünnschichtprobe reflektiert wird. Je nach Materialart können spektroskopische Ellipsometer die Dicke von wenigen Å bis zu Dutzend Mikrometern messen. Es ist auch eine ausgezeichnete Technik für mehrschichtige Messungen.
Die spektroskopische Ellipsometrie ermöglicht die Charakterisierung verschiedener Dünnschichteigenschaften, wie Schichtdicke, optische Eigenschaften (n,k), optischer Bandspalt, Grenzflächen- und Rauheitsdicke, Filmzusammensetzung, Gleichmäßigkeit nach Tiefe und Fläche und mehr.
Für spektroskopische Ellipsomie geeignete Materialien gehören Halbleiter, Dielektrika, Polymere, organische Stoffe und Metalle. Ellipsometrie kann auch zur Untersuchung von Feststoff-Flüssig- oder Flüssigkeit-Fluss-Grenzflächen verwendet werden.
HORIBA spektroskopische Ellipsometer verwenden innovative Technologien, um Hochfrequenz-Polarisationsmodulationsmessungen ohne mechanische Bewegung durchzuführen, was im Vergleich zu herkömmlichen Ellipsometern einen schnelleren, größeren Bereich und eine höhere Charakterisierungsgenauigkeit ermöglicht.
Spektroskopischer Ellipsometer von FUV bis NIR: 190 bis 2100 nm
Spektroskopischer Ellipsometer zur einfachen Messung von Dünnschichten
Leistungsstarker und kosteneffektiver spektroskopischer Ellipsometer
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