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Erfahren Sie mehr über spektroskopische Ellipsometrie, indem Sie sich Schulungsvideos ansehen und einige der Anwendungen in unserer Sammlung von Webinaren entdecken.
Die spektroskopische Ellipsometrie ist eine oberflächensensitive, zerstörungsfreie und nicht-invasive optische Technik, die häufig zur Charakterisierung dünner Schichten und Oberflächen eingesetzt wird. Sie basiert auf der Änderung des Polarisationszustands von Licht, das schräg von einer dünnen Schichtprobe reflektiert wird. Je nach Materialart können spektroskopische Ellipsometer Schichtdicken von wenigen Ångström bis zu mehreren zehn Mikrometern messen. Sie eignet sich auch hervorragend zur Messung von Mehrschichtsystemen.
Die spektroskopische Ellipsometrie ermöglicht die Charakterisierung einer Reihe von Dünnschichteigenschaften, wie z. B. Schichtdicke, optische Eigenschaften (n, k), optische Bandlücke, Grenzflächen- und Rauheitsdicke, Filmzusammensetzung, Gleichmäßigkeit in Tiefe und Fläche und vieles mehr.
Für spektroskopische Ellipsometrie geeignete Materialien gehören Halbleiter, Dielektrika, Polymere, organische Stoffe und Metalle. Ellipsometrie kann auch zur Untersuchung von Feststoff-Flüssig- oder Flüssigkeit-Fluss-Grenzflächen verwendet werden.
HORIBA spektroskopische Ellipsometer verwenden innovative Technologien, um Hochfrequenz-Polarisationsmodulationsmessungen ohne mechanische Bewegung durchzuführen, was im Vergleich zu herkömmlichen Ellipsometern einen schnelleren, größeren Bereich und eine höhere Charakterisierungsgenauigkeit ermöglicht.
Spektroskopischer Ellipsometer von FUV bis NIR: 190 bis 2100 nm
Spektroskopischer Ellipsometer zur einfachen Messung von Dünnschichten
Leistungsstarker und kosteneffektiver spektroskopischer Ellipsometer
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