半導體製造中硫化氫空氣分子污染的監測

- 採用紫外線螢光技術的 H2S 監測儀 -

空氣分子污染物 (AMC) 是一種以分子形式存在的空氣污染物，即使其濃度極低，對現代半導體製造的產品品質也起著至關重要的影響。

AMC 分為無機酸、有機酸、亞硫酸等類別。其中，硫化氫(H2S)以氣體形式存在時，由於其還原力而造成產品特性損失，以液體形式存在時會腐蝕金屬表面等負面影響。 H2S污染源分佈廣泛。例如火山活動和噴發、使用柴油作為燃料的重型機械的操作透過補充空氣增加無塵室中的 AMC 濃度。因此，在進入無塵室之前廣泛使用化學過濾器去除H2S，並且通常透過離子色譜法檢查污染程度。

由於H2S在中性至酸性條件下在水中的溶解度低，解離度也低，因此用離子色譜法檢測電導率比較困難。因此，通常將鹼性溶液和過氧化氫溶液混合並用作收集液。

然而，由於不同人員的混合比例不同，經常會出現偏差（人為錯誤），導致分析結果不穩定。此外，由於每次分析都需要時間（每個測試結果需要幾天）和人力成本，因此對於許多晶圓廠來說，提高分析的時間和空間解析度在經濟上是無法承受的。

綜上所述，人工分析可能存在偏差，無法捕捉隨機事件，例如由於突然的火山活動或化學過濾器惡化而導致的H2S 濃度意外增加，並且無法提供及時識別化學污染和污染源分析所需的足夠數據。勞動成本問題。