半导体制造设施

超纯水设施 ❯

废水处理设施 ❯

超纯水设施

超纯水是一种最大限度减少杂质、尽可能接近 H 2 O 的高纯度水,广泛应用于半导体器件和平板显示器(FDP)的清洗工艺,以及发电涡轮机的蒸汽发生器等领域。这种超纯水需经过脱盐、离子交换及多重膜处理等多道工序制备而成。HORIBA 为超纯水的生产与纯度控制提供各类高精度测量仪器,满足广泛的应用需求。

适用于半导体/FPD 制程中超纯水管理的高灵敏度硅监测仪

半导体面板安装 48/96 系列

  • 型号
  • 测量范围
  •  
  • HE-480R(W)0−100.0 MΩ・cm (温度补偿前)
  • HE-960R-GC0−100.0 MΩ・cm (温度补偿前)
    可连接传感器数量:兼容 1 通道
  • HE-960RW-GC0−100.0 MΩ・cm (温度补偿前)
    可连接传感器数量:兼容 2 通道

废水处理设施

半导体生产过程中会使用水,而使用过的水会从工厂排出。半导体工厂产生的废水可能对河流、湖泊和海洋等水生环境造成重大影响,因此需要进行适当的处理和管理。此外,这些废水可分为有机废水与无机废水,各自需要采用不同的处理方法。堀场通过可应对各类废水的测量仪器与传感器产品线,为废水处理领域作出贡献。

凝胶填充自清洁 pH 电极

自动总氮/总磷监测系统

自动化学需氧量监测仪

有机污染物监测仪

油分分析仪

油分分析仪

激光扫描油膜检测仪

界面液位计

H-1 系列(现场安装型)

  •  型号
  • 规格参数
  •  
  •  
  •  
  •  
  •  
  •  
  •  
  •  
  •  
  •  

48/96 系列(面板安装型)

  • 型号
  • 规格参数
  •  
  •  
  •  
  •  

搜索产品

Corporate