GD-OES，磁控溅射薄膜沉积分析的配套工具脉冲式射频 GD-OES 是磁控溅射沉积的理想配套分析工具。磁控溅射是等离子气相沉积的一种，PVD镀膜机的真空室充满惰性气体（例如氩气），通过施加高电压（RF、HIPIMS 等）产生辉光放电，离子加速到目标表面和等离子涂层，氩离子溅射靶材表面材料，从而在衬底上形成膜层。
射频GD-OES 测定氢和氘射频GD-OES 因对薄膜和厚膜的超快元素深度分布而闻名，可以测量所有元素，包括氢 (H)，这在许多应用领域都很重要 ，比如用于腐蚀研究、光伏、冶金、储氢材料的开发以及所有聚合物涂层研究等。H 最敏感的发射线位于VUV 范围内的121,567 nm。
