半导体制造设施

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超纯水设施

超纯水是一种最大限度减少杂质、尽可能接近 H 2 O 的高纯度水,广泛应用于半导体器件和平板显示器(FDP)的清洗工艺,以及发电涡轮机的蒸汽发生器等领域。这种超纯水需经过脱盐、离子交换及多重膜处理等多道工序制备而成。HORIBA 为超纯水的生产与纯度控制提供各类高精度测量仪器,满足广泛的应用需求。

H-1 Series (Field-Installation Type)

  • Model
  • Specifications
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  • HU-200TB-H4 Wire, High Sensitivity, Flow Through Type
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  • HR-2004 Wire, Water Flow Bead Type

48/96 Series (Panel Mount Type)

  • Model
  • Specifications
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Semiconductor Panel Mount 48/96 Series

  • Model
  • Measurement Range
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  • HD-960L0−20 mg/L
    Low flow rate model (when discharging chemical solution)

Gel-Filled pH/ORP Electrodes

Highly sensitive silica monitor for ultrapure water management in semiconductor/FPD processes


废水处理设施

半导体生产过程中会使用水,而使用过的水会从工厂排出。半导体工厂产生的废水可能对河流、湖泊和海洋等水生环境造成重大影响,因此需要进行适当的处理和管理。此外,这些废水可分为有机废水与无机废水,各自需要采用不同的处理方法。堀场通过可应对各类废水的测量仪器与传感器产品线,为废水处理领域作出贡献。

H-1 Series (Field-Installation Type)

  • Model
  • Specifications
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48/96 Series (Panel Mount Type)

  • Model
  • Specifications
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Gel-filled Self-cleaning pH Electrode

Pocket Water Quality Meters

Pocket Water Quality Meters

pH meter with automatic calibration function

Interface level meter

Automatic Total Organic Carbon Analyzer (On-line TOC analyzer)

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