전자 산업 클린룸 내 공기 중 분자 오염(AMC) 모니터링

• 수동 분석에는 비용, 기술 및 시간이 소요됩니다.
• 화학 필터 교체 적정 시기를 알고 싶어요
• 전자기기의 금형 부식
• 제조장비의 안개거울렌즈
• 산화막의 항복 전압 저하 방지
• 에칭 오류
• 박막의 비정상적 성장

HORIBA의 AMC 모니터링 시스템은 자동 측정을 통해 오염 농도 추세와 화학 필터 유지 관리를 모니터링하고 수동 분석에 기반한 기존 측정을 보완하여 고객의 문제 해결에 기여합니다. 실외 대기의 결합 측정을 통해 이 시스템으로 보다 포괄적인 측정 솔루션을 제공할 수 있습니다.

특징

• 안정적인 자동 연속 측정
  제품/주변 장비의 결함 원인 추정 및 화학 필터 교체 시기를 추세 모니터링을 통해 예측
• 간편한 조작
  특별한 기술이 필요하지 않습니다. 관리 비용, 시간 및 노동 비용을 절감합니다.
• 요청에 따른 시스템 구축
  라인 선택기와 휴대용 트롤리 타입(옵션)을 갖춘 다중점 측정. 클린룸에서의 측정뿐만 아니라 외부 공기 측정도 지원합니다.

• 클린룸 내부 또는 환기 공기 중 공기 중 분자 오염(AMC) 측정
• 특정 장비의 주변부 등 특정 지점에 대한 집중 측정
• 교통량 증가(실외 대기)로 인한 질소산화물 농도 상승 등 특정 이벤트를 감지합니다.