반도체 산업을 위한 초고순도 산소의 메탄 불순물 측정

- 공기 분리 장치에서 생산되는 산소의 품질 보증 -

산소는 산화물을 형성하는 높은 반응성 특성을 가지고 있어 철강 산업, 의료 산업, 식품 산업 등 많은 분야에서 중요한 역할을 합니다. 그 중에는 게이트 유전체 필름 형성/게이트 전극 형성을 하는 반도체 산업도 있는데, 특히 초고순도 산소(UHPO)를 사용하는 응용 분야입니다. UHPO의 순도는 일반적으로 99.9995% 이상이며 주로 공기 분리 장치(ASU)에서 생산됩니다.

ASU로 흡입된 대기는 압축되어 소위 "콜드 박스"를 거칩니다. 이 과정에서 산소, 질소, 아르곤과 같은 주요 주변 공기 성분이 액화되어 다른 동결점에서 분리됩니다. 안전한 작업을 위해, 그리고 최종 제품의 순도를 더욱 개선하기 위해, 공정 마지막에 추가 정제 장치가 사용됩니다.

적절한 공정 작동을 보장하기 위해 여러 분석 장비가 사용됩니다. 특히 메탄(CH4) 측정의 경우 화염 이온화 감지(FID) 분석기가 일반적으로 사용되지만 다음과 같은 몇 가지 문제가 있습니다.

  1. 산소는 CO2및 H2를 생성하여 수소 화염의 이온화 반응에 부정적인 영향을 미칩니다. O는 산화에 의해 측정된 CH4불순물의 농도가 ppb 수준만큼 낮을 때 심각한 측정 오류를 초래합니다.
  2. FID는 연료로 수소를 필요로 하는데, 이는 시설의 안전관리에 대한 위험과 추가적인 운영비용과 관련이 있습니다.
  3. FID에 대한 일반적인 대안 중 하나는 비분산 적외선(NDIR) 방법이지만, 많은 경우 요구되는 감도가 충족되지 않습니다.

 

QC 부서의 목소리

  • FID 분석기에 순수산소를 주입하면 화염의 안정적인 연소가 어렵습니다.
  • FID 방식은 위험성과 관련된 유틸리티로서 수소를 필요로 합니다.
  • NDIR 방법과 같은 대안은 CH4의 미량 수준을 측정할 수 없습니다.

 

HORIBA의 솔루션

미량 가스 측정기 GA-370을 제안드립니다.

  • 고감도로 CH4의 연속 측정

교차 변조 이중 빔 NDIR 기술은 순수 산소에서 CH4의 실시간 ppb 수준 모니터링을 위해 놀라울 만큼 향상된 제로 드리프트 및 감도를 실현합니다.

  • 안전한 측정

NDIR 기술은 수소를 가스로 사용하지 않으므로 측정의 안전성이 보장됩니다.

GA-370

그림1: 미량 가스 측정기 GA-370

표1:사양
측정된 가스CO, CO2, CH4
측정 범위0-1/2/5/10 ppm
LDL10 ppb
선택 가능 범위4개의 범위
반복성+/- 2% of full scale
직선성+/- 2% of full scale
제로 드리프트(주)+/- 0.03ppm
스팬 드리프트(주)+/- 3% of full scale

공기 분리 장치의 HORIBA 솔루션

그림 2: 공기 분리 장치

그림2: 공기 분리 장치


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측정 원리

교차 변조 듀얼 빔 비분산 적외선(NDIR) 분석기

서로 다른 원자로 구성된 분자는 특정 파장 범위에서 적외선을 흡수하는 것으로 알려져 있습니다. 비분산 적외선 분석기 (이하, NDIR)는 분자의 위의 물리적 특성을 사용하고 CO, CO2및/또는 CH4의 특정 파장에서 적외선 흡수를 측정합니다. 샘플 가스에서 농도 값 측정을 계속합니다.

교차 변조 방식으로 알려진 이 방법은 초퍼를 이용한 기존의 변조와 달리 솔레노이드 밸브를 일정 간격으로 전환하여 샘플 가스와 기준 가스를 동일한 가스 셀에 번갈아 주입하는 메커니즘(변조 메커니즘)을 사용한다는 특징이 있습니다.

이 교차 변조 방식은 드리프트가 매우 작고 장기적으로 안정적인 출력 신호를 생성합니다. 또한 콘덴서 마이크의 다이어프램이 좌우로 이동합니다(초퍼를 사용할 때 신호량의 두 배). 이는 노이즈 내성을 향상시킵니다. 초퍼와 달리 변조 메커니즘을 서비스할 때 조정할 필요가 없습니다.

또한, 측정 성분에 의해 흡수되는 특정 파장에 가까운 파장 대역을 갖는 간섭 성분 가스에 의해 발생하는 간섭 효과를 줄이기 위해 간섭 성분에 대한 보상 검출기를 통합하여 가스 농도의 고정밀 측정을 달성합니다. NDIR과 교차 변조 방식 및 간섭 성분에 대한 보상 검출기의 조합은 ppb 수준에서 고정밀 측정을 가능하게 합니다.

그림3: 교차 변조 듀얼 빔 비분산 적외선 기술. 흐름 개요

그림3: 교차 변조 듀얼 빔 비분산 적외선 기술. 흐름 개요


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