腐蚀

 

腐蚀是指材料因与环境介质发生化学或电化学反应而逐渐破坏或性能劣化的现象。虽然最常见于金属材料,但这一现象同样会影响聚合物、陶瓷等多种材料。

深入研究不同材料中的腐蚀行为至关重要,不仅有助于揭示其内在作用机制,还能为研究人员和工程师在项目设计与实施过程中提供关键依据,支撑科学决策。为实现这一目标,需借助先进的分析工具与技术,从宏观、微观乃至纳米尺度全面探究腐蚀过程。多尺度研究有助于提升对材料失效的预测能力,优化其使用寿命,并为制定高效防腐策略提供理论基础与技术支撑。

什么是腐蚀?

腐蚀是指材料在环境与机械因素共同作用下,与其周围介质发生化学或电化学反应,所引起的局部或整体逐渐劣化的现象。该过程会导致材料强度下降、表面性质变化及整体性能退化。

多种变量如pH值、温度、化学物质或放射性条件等均可诱发或加速腐蚀,进而引发材料劣化、设备故障,并对结构安全性与使用寿命造成不利影响。同时,应力和磨损也会破坏材料表面保护层,加剧腐蚀进程,尤其在承受较高机械载荷与摩擦的部件中表现更为显著,进一步促进材料性能的恶化。

腐蚀风险是能源、冶金、海洋工程、航空航天、汽车制造等众多工业领域关注的重点问题。这些行业面临重大挑战,因为腐蚀不仅可能引发结构失效和安全事故,还会导致运行效率下降与维护成本上升。

我们为何研究腐蚀?

研究腐蚀及其过程具有至关重要的意义,它帮助我们深入理解材料在不同环境条件下发生劣化的机理与原因。

这一认知对各行业而言不可或缺,因其能够指导开发更耐久的材料、筛选合适的防护涂层,并制定高效且经济的维护策略。

通过揭示腐蚀的内在机制,各行业可实现对潜在故障的早期预测、延长关键资产的使用寿命,并显著降低如结构倒塌、泄漏及污染等严重后果发生的风险。积极主动的腐蚀管理不仅有助于提升安全水平,还可通过减少材料损耗、避免高昂停机与维修支出,最终实现运营成本的优化与可持续发展目标的推进。

有哪些分析需求?

要全面评估材料结构及其与环境的相互作用,必须采用精密的分析技术。综合利用多种方法,能够深入监测腐蚀产物的形成过程,并准确评估防护涂层与缓蚀剂的性能表现。

元素分析

元素分析是筛选具备所需耐腐蚀性能材料的关键环节,可揭示材料在特定环境中的精确成分及其潜在反应行为。常用的分析技术包括 电感耦合等离子体 (ICP), X射线荧光光谱 (XRF)和 辉光放电发射光谱 (GDOES) 等。

分子与结构研究

在分子和结构层面开展研究,对于理解材料行为并预测其在腐蚀环境中的响应至关重要。拉曼光谱技术 可无损获取材料的分子与结构信息,研究人员可借助拉曼显微镜及探针等工具远程实时监测腐蚀过程,从而掌握材料降解机制的关键动态。此外,多模式原子力显微镜 (AFM) 能够提供高精度的表面形貌分析,并可精确定位可能诱发腐蚀的局部不均匀区域。

与环境介质的相互作用研究

理解材料与其所处环境介质之间的相互作用,有助于预测腐蚀行为并确保其长期耐久性。例如,必须系统研究表面特性及防护涂层的有效性以全面评估其性能。原位测量等分析手段可实时监测材料在流动电解液中的表面变化,为理解材料降解机制或识别腐蚀过程中的关键反应提供重要依据。离线研究则通过调控时间、温度、pH值和压力等腐蚀参数,进一步揭示不同环境条件对材料行为的影响机制。

融合多技术的关联分析方法

单一分析技术所获得的信息往往具有局限性,因其仅反映该技术与材料间特定类型的相互作用。因此,必须结合多种技术以实现多维度的全面分析。

HORIBA的分析方法可与其他关键表面分析技术无缝集成。例如,可在辉光放电(GD)蚀坑内的不同深度进行拉曼光谱测量,从而实现元素分布与分子结构的深度剖面关联分析。通过µ-XRF进行颗粒分析,结合显微拉曼技术,并借助 nanoGPS navYX 重定位系统实现多技术下的同一区域精准定位,可显著提升关联测量的能力与可靠性。

有哪些分析解决方案?

HORIBA 提供先进的腐蚀研究分析技术,可深入表征材料成分、行为及其与环境之间的相互作用。这些方法能够实现从宏观到纳米尺度的精确分析与实时监测,对揭示腐蚀机理、开发高效防护涂层及延长材料使用寿命具有关键作用。

  • AESEC-ICP 联用技术:通过原子发射光谱电化学(AESEC)与 电感耦合等离子体 (ICP) 联用,实时监测金属离子释放与电极沉积行为,适用于金属及合金腐蚀过程的动态研究。
  • 辉光放电光谱仪 (GDOES) :提供材料表面及亚表层元素成分的高分辨率深度分布分析。
  • 拉曼光谱仪 :实现无损的分子与结构分析,支持对腐蚀过程、产物及涂层失效机制的原位监测与深度剖面研究。
  • 原子力显微镜 (AFM) 与拉曼联用: 耦合表面形貌与化学信息,增强对局部腐蚀起源、涂层缺陷及界面降解行为的综合解析能力。
  • 元素分析仪:精准测定材料中氧、氮、氢等轻元素含量,适用于腐蚀相关材料成分控制与失效分析。
  • X 射线荧光光谱 (XRF, micro-XRF):用于元素成分分析、分布成像以及涂层或腐蚀产物膜厚的精确测量。
  • 椭圆偏振光谱仪 :表征薄膜光学性质与厚度,支持液相环境下的原位腐蚀薄膜研究。
  • 粒度仪 :通过测量粒径分布、Zeta 电位及表面积,评估腐蚀环境侵袭性及缓蚀剂性能。
  • 荧光光谱仪: 应用于分子级别腐蚀表征,实现对腐蚀产物、界面反应及过程机制的灵敏检测与识别。
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