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辉光放电发射光谱仪 (GD-OES)

GD-OES 是一种可对层状材料进行超快速元素深度剖析技术,对所有元素(含:H、D、Li、C、N、O) 以纳米级深度分辨率测试。

脉冲射频源可以凭借优良的性能分析所有类型的固体样品,从1纳米到150 微米以上;超快速溅射 (UFS)分析方法可轻松溅射聚合物材料;此外GD-OES还可为扫描电子显微镜 (SEM)制备样品。

HORIBA Scientific GD 仪器采用专利高动态范围检测器 HDD,可实时、自动优化灵敏度。即使元素浓度从痕量变为主量元素,也无需任何调整。另外HORIBA Scientific 专利差分干涉仪(DiP)可以直接将溅射时间转换为深度,精度达纳米级,并且和元素分析是同步进行的。

GD-Profiler 2™ 辉光放电光谱仪

GD-Profiler 2™ 可以快速且同时分析所有元素,包括气体元素N、O、H和Cl,是薄膜表征和工艺研究的理想工具。

用户培训班

我们的培训讲师都是辉光放电光谱方面的专家。他们将为您提供培训、建议和指导,以便于您充分利用好HORIBA的科学仪器。

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技术 & 常见问题答疑

辉光放电发射光谱仪(GD-OES

GD-OES 是一种快速提供块体和多层材料元素组成的表面/深度剖析技术,对所有元素都具有高灵敏度,点击阅读此技术以及了解其多种应用。
 

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