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Composición elemental cualitativa y cuantitativa para:
El análisis elemental de materiales es el proceso de identificar y cuantificar los elementos químicos de una muestra para determinar su composición. Mide el tipo y la cantidad de elementos presentes, proporcionando información sobre la composición del material, y es clave para evaluar el rendimiento del material (peso, resistencia, resistencia a la corrosión, etc.).
Se utilizan técnicas avanzadas en industrias como semiconductores, metalurgia, farmacéutica y ciencias ambientales, para comprender la composición de materiales, lo cual es fundamental para la investigación, el control de calidad y el cumplimiento normativo. El análisis elemental es una piedra angular para garantizar el rendimiento de los materiales y fomentar la innovación en diversas aplicaciones.
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El análisis de huellas dactilares identifica la firma elemental única de un material, ayudando a determinar la composición, la estructura y las características distintivas. Es esencial para verificar las materias primas, garantizar la consistencia de los lotes y detectar contaminaciones o fraudes.
Normalmente, el análisis de huellas dactilares requiere resultados cualitativos o semicuantitativos y puede ser interesante para detectar defectos locales o inhomogeneidades. Los elementos y compuestos se detectan desde ppm (si la técnica específica lo permite) hasta los niveles porcentuales (%), lo que hace que la identificación digital sea crucial para el control de calidad, el desarrollo de materiales, la investigación forense y el análisis de fallos en diferentes industrias.
Las técnicas de Fluorescencia de Rayos X (XRF) o Espectroscopía de Emisión Elemental (ICP-OES o GDOES) generan perfiles espectrales o elementales para la autenticación de materiales, investigaciones forenses y detección de falsificaciones.
El análisis de contenido principal determina los elementos principales en un material, normalmente en concentraciones superiores al 1% en peso, asegurando la integridad del producto, el cumplimiento de normas y optimización de procesos.
Técnicas como ICP-OES (Espectroscopía de Emisión Óptica de Plasma Acoplado Inductivamente), XRF (Fluorescencia de Rayos X) y analizadores C/S cuantifican la composición a granel en metales, cerámica y semiconductores, mientras que GDOES (Espectroscopía de Emisión Óptica por Descarga Luminosa) se centra principalmente en recubrimientos. Estos métodos ayudan a mantener la calidad en metalurgia, automoción, componentes fotónicos o energía (batería, pilas de combustible).
El análisis de contenido traza y ultra-traza detecta impurezas y componentes elementales menores a bajos niveles de ppm, ppb o incluso inferiores, garantizando la pureza del material, seguridad y rendimiento.
Incluso una contaminación mínima puede afectar a la fabricación de semiconductores, metales de alta pureza, productos farmacéuticos y la monitorización ambiental. Técnicas como ICP-OES y analizadores H/N/O proporcionan una cuantificación de alta sensibilidad de elementos traza, identificando contaminantes, dopantes y elementos no deseados en aplicaciones críticas.
La Espectroscopía de Emisión Óptica de Plasma Acoplado Inductivamente (ICP-OES) proporciona un análisis elemental altamente sensible para muestras líquidas y posiblemente algunos sólidos, como el grafito, con un accesorio dedicado. Es ideal para detectar elementos traza a través de matrices complejas (salmueras, REE, etc.), ofreciendo alta precisión y un amplio rango dinámico. Las aplicaciones incluyen química, metalurgia, energía, etc.
La Espectroscopía de Emisión Óptica por Descarga Luminosa (GDOES) permite el análisis de resolución en profundidad de materiales sólidos, midiendo las concentraciones elementales en función de la profundidad. Los instrumentos GDOES se utilizan en universidades donde contribuyen al desarrollo de nuevos materiales con recubrimientos a nanoescala y en adelante, y en industrias para monitorizar la fabricación de dispositivos fotovoltaicos, entender el origen de la corrosión, evaluar la composición de metales preciosos, controlar la fabricación de discos duros o LEDs, mejorar baterías de Li, etc.
Los sistemas de fluorescencia de rayos X (XRF) de HORIBA proporcionan análisis elemental no destructivo para sólidos, polvos y líquidos, detectando partículas tan pequeñas como 10 μm. El escaneo automatizado permite un mapeo detallado de áreas de hasta 10 cm × 10 cm. Ideal para industrias como electrónica, minería, baterías y pilas de combustible, y reciclaje, XRF ofrece un análisis rápido y rentable de la composición. También destaca en aplicaciones de investigación, ofreciendo detección de metales de transición de alta sensibilidad y mapeo a escala milimétrica, superando a SEM-EDX en ciertos casos.
La Serie EMIA proporciona una medición precisa del contenido de carbono y azufre en muestras sólidas inorgánicas, crucial para el control de calidad en la producción de acero y metales, el refinado de metales en general y cerámica. Estos analizadores son conocidos por su alta sensibilidad, precisión y funcionamiento fácil de usar para garantizar la integridad del material y el cumplimiento de las normativas estándar.
La serie EMGA de HORIBA está diseñada para medir oxígeno, nitrógeno e hidrógeno en metales y materiales sólidos inorgánicos. Estos instrumentos se utilizan ampliamente en la metalurgia (polvo y virutas de cristal), cerámica y materiales avanzados por su alta sensibilidad, precisión y operaciones fáciles de usar para garantizar la integridad de los materiales y el cumplimiento de la normativa estándar.
HORIBA ofrece analizadores de azufre diseñados para medir el contenido de azufre en aceites, combustibles y lubricantes. Estos instrumentos ayudan a garantizar el cumplimiento de las normativas medioambientales (ASTM el cumplimiento de la D4294 y la ISO 8754, por ejemplo), las que regulan los límites de azufre en el combustible, y se utilizan ampliamente en las industrias petroquímica, automotriz y aeronáutica. También se pueden detectar niveles bajos de cloro para evitar la corrosión de las tuberías (ASTM D4929).
ICP-OES de alta resolución, alta sensibilidad y alta estabilidad
Espectrómetro de emisión óptica de descarga luminosa por radiofrecuencia pulsada
Microscopio analítico de rayos X (Micro-XRF)
Analizador de Carbono/Azufre
(Modelo Insignia de Alta Precisión)
Analizador de Oxígeno/Nitrógeno/Hidrógeno
(Modelo Insignia de Alta Precisión)
Analizador de Azufre en Petróleo por Fluorescencia de Rayos X
Analizador de carbono/azufre (modelo básico)
Analizador de oxígeno y nitrógeno (modelo básico)
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