Monitoring of Airborne Molecular Contamination in Clean Room of Electronics Industry

• 수동 분석으로 인해 비용, 기술 및 시간이 소요됨
• 화학 필터를 교체하는 데 적절한 시간을 알고 싶을 때
• 전자기기의 부식
• 제조 장비의 안개 낀 미러 렌즈
• 필름의 획기적인 전압 저하를 산화
• 식각(etching) 오류
• 박막 이상 성장

HORIBA의 AMC 모니터링 시스템은 자동 측정을 통한 오염 농도 동향 모니터링 및 화학 필터 유지보수를 지원하며, 수동 분석을 기반으로 하는 기존 측정을 보완하여 고객의 문제 해결을 위해 서포트 해드리고 있습니다. 실외 대기의 복합 측정을 통해 보다 포괄적인 측정 솔루션을 제공합니다.

특징

• 안정적인 자동 및 연속 측정
  동향을 모니터링하여 제품/주변기기 불량 원인 추정 및 화학물질 필터 교체 시기 추정이 가능합니다.
• 간편한 조작
  특별한 기술은 필요하지 않아 관리 비용과 시간 및 인건비 절감에 도움을 줍니다.
• 고객 맞춤 시스템
  라인 셀렉터 및 휴대용 트롤리 유형(옵션)을 사용한 멀티포인트 측정이 가능합니다. 클린룸 내부 측정뿐만 아니라 외부 공기 측정도 가능합니다.

• 클린룸 내부 또는 환기 공기 내 AMC 측정합니다.
• 특정 장비의 주변과 같은 지점에서 집중적인 측정이 가능합니다.
• 트래픽 증가로 인한 질소 산화물 농도 상승(외부 대기)과 같은 특정 이벤트를 감지합니다.