EV-140C Series

Optical Emission Spectroscopy Etching End-point Monitor EV-140C

プラズマ発光モニタ

プラズマを利用した半導体薄膜プロセスにおいて、エンドポイントの検出またはプラズマのコンディション管理を行うための、発光分析方式のエンドポイントモニタです。
独自開発のアルゴリズム“Rupture Intensity”により微弱な信号変化から的確にエンドポイントを検出できます。
微弱な発光変化を捉えるため、感度を大幅に改善。
またノイズ耐性を向上させることにより、24時間稼動する製造ラインの過酷な環境化で高い安定動作を確保します。

製造元:株式会社堀場製作所

事業セグメント: 半導体
製品分類: Dry Process Control
製造会社: HORIBA, Ltd.
  • 開口比 F/2の明るいグレーティングを採用
     
  • 2048Ch 高感度高分解能 裏面入射型CCD ラインセンサ搭載
     
  • 高度なプロセスコントロールを実現するソフトウェア Sigma-P
 

センサーユニット

・分光器
波長範囲200-800 nm
光学分解能

<2.0 nm @λ=200-500 nm
<2.5 nm @λ=500-700 nm
(FWHM理論分解能)

焦点距離140 mm

・検出器
CCDタイプ裏面入射型CCDリニアイメージセンサ
A/D分解能16ビット
サンプリングレート20 msec~2.5 sec

・その他仕様
接続チャンバ数1 ch
AC電源仕様センサユニットサイズ142 × 201 × 257 mm(W×H×D)※突起部を含まず
 センサユニット質量5.8 kg
 電源仕様AC100-240 V ±10 %,  50/60 Hz ±3 Hz 電源プラグ:3P(接地極付き)
 消費電力50 VA以下
動作環境温度15-35 ℃
動作環境湿度80 %RH以下


外部コントローラ

 ノートパソコンを選択する場合産業用パソコンを選択する場合
OSWindows 11 Pro(64ビット版、英語版)Windows 10 IoT Enterprise 2021 LTSC(英語版)
CPUIntel Core Ultra 5 235UIntel Core  i3-12100TE
メインメモリ8 GB以上8 GB以上
記憶装置500 GB以上(SSD)512 GB以上(SSD)


ファイバ

ファイバ仕様合成石英ファイバ
ファイバグレードVIS用
ファイバ長2 mまたは5 m ※ご注文時指定


接続ケーブル

LANケーブル3 m (EV-140C センサユニット・コントローラユニット間)


外部取り合い

リモートプロトコルパラレルI/O、TCP/IP、RS-232C ※ご注文時指定


オプション

チャンバアダプタ集光レンズユニット
エンドポイント最適化ソフトウェア対応OS:Windows 10, Windows 11(64ビット)

 

Windowsは、米国およびその他の国におけるMicrosoft Corporationの商標または登録商標です。

Process Control and In-situ Measurement for Photovoltaic Manufacturing Process
Process Control and In-situ Measurement for Photovoltaic Manufacturing Process

お問い合わせ

* 項目は必ずご記入ください。

HORIBAグループ企業情報