GDOES, a ferramenta analítica complementar para deposição por pulverização catódica magnetrônica.
A pulverização catódica por magnetron é um tipo de deposição de vapor por plasma (PVD). Ela difere um pouco da tecnologia de pulverização catódica convencional. A diferença reside no fato de que a tecnologia de pulverização catódica por magnetron utiliza campos magnéticos para manter o plasma em frente ao alvo, intensificando o bombardeio de íons. O resultado dessa tecnologia de revestimento PVD é um plasma de alta densidade.
A espectroscopia de emissão óptica por descarga de plasma pulsada (RF GDOES) é uma ferramenta analítica complementar para a deposição por pulverização catódica magnetron. A pulverização catódica magnetron é um tipo de deposição de vapor por plasma (PVD). A câmara de vácuo da máquina de revestimento PVD é preenchida com um gás inerte, como o argônio. Ao aplicar uma alta tensão (RF, HIPIMS etc.), cria-se uma descarga luminosa, resultando na aceleração de íons em direção à superfície do alvo e na deposição de um revestimento de plasma. Os íons de argônio ejetam o material pulverizado da superfície do alvo (pulverização catódica), resultando em uma camada de revestimento pulverizada sobre os produtos em frente ao alvo. Frequentemente, utiliza-se um gás adicional, como nitrogênio ou acetileno, que reage com o material ejetado (pulverização catódica reativa). Uma ampla gama de revestimentos pulverizados pode ser obtida com essa técnica de revestimento PVD.
A tecnologia de pulverização catódica por magnetron é muito vantajosa para revestimentos decorativos (como Ti, Cr, Zr e nitretos de carbono), devido à sua superfície lisa. Essa mesma vantagem faz com que a pulverização catódica por magnetron seja amplamente utilizada para revestimentos tribológicos no mercado automotivo (como CrN, Cr₂N e várias combinações com revestimento de carbono tipo diamante (DLC)).
A pulverização catódica por magnetron difere um pouco da tecnologia de pulverização catódica convencional. A diferença reside no fato de que a tecnologia de pulverização catódica por magnetron utiliza Campos magnéticos mantêm o plasma em frente ao alvo, intensificando o bombardeio de íons. O resultado é um plasma de alta densidade obtido por meio desse processo de deposição física de plasma (PVD). tecnologia de revestimento.
