Modos de medição

• AFM de contato no ar;
• AFM de contato em líquido (opcional);
• AFM semicontato no ar;
• AFM semicontato em líquido (opcional);
• AFM sem contato verdadeiro;
• Microscopia de Força Dinâmica (DFM, FM-AFM);
• Microscopia de Força de Dissipação;
• Modo Superior;
• Imagem de fase;
• Microscopia de Força Lateral (LFM);
• Modulação de força;
• AFM condutivo (opcional);
• Modo I-Top (opcional);
• Microscopia de Força Magnética (MFM);
• Sonda Kelvin (Microscopia de Potencial de Superfície);
• Sonda Kelvin de passagem única;
• Microscopia de capacitância (SCM)
• Microscopia de Força Elétrica (EFM);
• MFM/EFM de passagem única (“Varredura plana”);
• Medições da curva de força;
• Microscopia de Força de Resposta Piezoelétrica (PFM);
• Modo PFM-Top;
• Nanolitografia;
• Nanomanipulação;
• STM (opcional);
• Mapeamento de fotocorrente (opcional);
• Medições da característica volt-ampère (opcional);
• Microscopia de força de cisalhamento com diapasão (ShFM);
• Microscopia de força normal com diapasão.

Scanner e base SmartSPM

Área de digitalização da amostra: 100 µm x 100 µm x 15 µm (±10%)

Tipo de varredura por amostra: Não linearidade XY 0,05%; Não linearidade Z 0,05%

Ruído: < 0,1 nm RMS na dimensão XY em uma largura de banda de 200 Hz com os sensores de capacitância ligados; < 0,02 nm RMS na dimensão XY em uma largura de banda de 100 Hz com os sensores de capacitância desligados; < 0,04 nm RMS no sensor de capacitância Z em uma largura de banda de 1000 Hz.

Frequência de ressonância: XY: 7 kHz (sem carga); Z: 15 kHz (sem carga)

Movimento X, Y, Z: Controle digital em malha fechada para os eixos X, Y e Z; Alcance de aproximação motorizada em Z de 18 mm

Dimensões da amostra: Máximo 40 x 50 mm, 15 mm de espessura.

Posicionamento da amostra: Faixa de posicionamento motorizada da amostra de 5 x 5 mm

Resolução de posicionamento: 1 µm

Cabeçote AFM HE001

Comprimento de onda do laser: 1300 nm;

O laser de registro não influencia a amostra biológica;

O laser de registro não influencia as medições fotovoltaicas.

Ruído do sistema de registro: <0,03nm.

Totalmente motorizado: 4 motores de passo para alinhamento automático do braço cantilever e do fotodiodo.

Acesso livre à sonda para manipuladores e sondas externas adicionais;

Acesso óptico simultâneo superior e lateral: objetivas planapocromáticas de 10x, NA=0,28 e 20x, NA=0,42, respectivamente.

Cabeçote AFM HE002*

Comprimento de onda do laser: 1300 nm;

O laser de registro não influencia a amostra biológica;

Ausência de influência do laser de registro nas medições fotovoltaicas;

Ruído do sistema de registro: <0,1nm;

Totalmente motorizado: 4 motores de passo para alinhamento automático do cantilever e do fotodiodo;

Acesso livre à sonda para manipuladores e sondas externas adicionais;

Acesso óptico simultâneo pela parte superior e lateral: com objetivas planapocromáticas, objetiva lateral até 100x, NA=0,7; objetiva superior 10x, NA=0,28, simultaneamente;

* Com o HE002, as técnicas de AFM por contato e semicontato em meio líquido são impossíveis.

Microscópio óptico

Abertura numérica: até 0,1;

Ampliação: em monitor de 19" com CCD de 1/3", de 85x a 1050x;

Campo de visão horizontal: de 4,5 a 0,37 mm;

Zoom manual com trava: 12,5x (zoom motorizado opcional);

Suporte e unidade de foco grosso/fino;

Capacidade de usar objetivas planapocromáticas de 10x, NA=0,28 e 20x, NA=0,42 e 100x, NA=0,7 (dependendo da cabeça do AFM);

Célula líquida (opcional)

Dimensões da amostra: 2 mm de espessura, 25 mm de diâmetro;

Faixa de posicionamento da amostra: 5x5mm;

Resolução de posicionamento: 1um;

Dimensões da célula: 40x40x12mm;

Volume de líquido: 3 ml;

Capacidade de troca de líquidos;

Limpeza de componentes celulares em autoclave e por ultrassom.

Célula líquida com controle de temperatura (opcional)

Dimensões da amostra: 2 mm de espessura, 25 mm de diâmetro;

Aquecimento: até 60°C;

Resfriamento: abaixo da temperatura ambiente até 5°C;

Faixa de posicionamento da amostra: 5x5mm;

Resolução de posicionamento: melhor que 1,5 µm;

Dimensões da célula: 40x40x12mm;

Volume de líquido: 3 ml;

Capacidade de troca de líquidos;

Limpeza de componentes celulares em autoclave e por ultrassom.

Unidade AFM condutiva (opcional)

Faixa de corrente: 100fA ÷ 10uA;

3 faixas de corrente (1nA, 100nA e 10uA) selecionáveis por programa;

Faixa de tensão: -10 ÷ +7V;

Ruído de corrente RMS: inferior a 60 fA para a faixa de 1 nA.

Condutivo para modo Kelvin, comutável a partir do programa.

Suporte para diapasão com força de cisalhamento e força normal combinadas (opcional)

Compatível com diapasões com frequência de ressonância livre de 32.768 kHz;

Dois tipos de PCBs para fixação de diapasões para operação com força de cisalhamento e força normal;

Excitação piezocerâmica da vibração do diapasão;

Pré-amplificador integrado para baixo ruído;

Compatível com objetiva lateral de 100x para medições TERS /TEPL;

Compatível com objetiva superior de 10x.

Unidade de nanoindentação (opcional)

Carga máxima: 5mN.

Nível de ruído da carga: inferior a 100nN.

Nível de ruído de deslocamento: inferior a 0,2 nm.

Compatibilidade com sistemas ópticos

O laser infravermelho não interfere com a formação de imagens ópticas;

Possibilidade de atualização para OmegaScope para operação em espectroscopia, fotovoltaica, SNOM e TERS & TEPL.

Caixa de proteção com suporte para microscópio óptico (opcional)

Isolamento acústico: 30dB;

Blindagem eletrostática;

Conexões de entrada e saída para ligação de controle ambiental;

Focalização com parafuso micrométrico ± 6,5 mm;

Leitura do micrômetro: 10 µm;

Sensibilidade de foco: melhor que 1 µm;

Elevador de serviço rápido: alcance até 98 mm;

Posicionamento XY: ± 2 mm;

Ajuste fino de foco opcional para objetiva de 100x:

Foco preciso de 0,2 mm;

Leitura do micrômetro: 0,5 µm;

Sensibilidade de foco melhor que 0,1 µm;

Sistema de controle de umidade (opcional)

Faixa de umidade relativa: 10-85%;

Estabilidade da umidade relativa: ±1%;

Software

Alinhamento automático do sistema de registro;

Configuração e pré-ajuste automáticos para técnicas de medição padrão;

Ajuste automático da frequência de ressonância do cantilever;

Capacidade de trabalhar com curvas de força;

Lua é uma linguagem de macros para programação de funções, scripts e widgets definidos pelo usuário;

Capacidade de programar o controlador com linguagem macro DSP em tempo real sem recarregar o software de controle;

Capacidade de processar imagens no espaço de coordenadas, incluindo a criação de cortes transversais, ajuste e subtração de superfícies polinomiais de até 12º grau;

Processamento FFT com capacidade de tratar imagens no espaço de frequência, incluindo filtragem e análise;

Nanolitografia e nanomanipulação;

Processamento de imagens de até 5000x5000 pixels.