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Microfotoluminescência

  • O sistema SMS utiliza principalmente óptica reflexiva em seu projeto, oferecendo uma ampla faixa espectral tanto para excitação (266 nm – 1064 nm) quanto para emissão (250 nm – 2200 nm).
  • Mapeamento de wafers de até 300 mm
  • Multiplexar diferentes técnicas em um único sistema, como imagens de fluorescência baseadas em filtros e imagens de fotoluminescência hiperespectral completas.

Diferentes materiais semicondutores, como ZnO, GaN, GaAs, CdTe, CIGS, InP e GaSb, foram caracterizados com um sistema SMS que emite fotoluminescência de 200 nm a 2000 nm.

Mapeamento de fotoluminescência (PL) realizado em um dispositivo InP fabricado, mostrando a intensidade do pico de PL, a posição do pico e a largura a meia altura (FWHM) da emissão, bem como o histograma dos dados atribuídos.

Especificações de fotoluminescência

Espectrômetro e detectores
EspectrômetrosMicroHRiHR320iHR550
Lasers de excitação 1266 nm, 325 nm, 405 nm, 532 nm, 633 nm, 785 nm, 980 nm, 1064 nm
Faixa espectral (nm) 2250 nm – 2200 nm
Grelhas recomendadas 31800 g/mm, 600 g/mm, 300 g/mm
Resolução espectral 4 (nm)0.390.180.1
Microscópio
Objetivas de microscópio 5Ampliação10X50X100X
 Tamanho do ponto (acoplado à fibra)< 50 μm< 12 μm< 6 μm
 Tamanho do ponto (acoplado ao espaço livre)< 10 μm< 5 μm< 2 μm
Etapa de AmostraXYZ (Opções manual e motorizada disponíveis) – 75 x 50 mm; 100 x 100 mm; 150 x 150 mm; 300 x 300 mm
Câmera de visãoCâmera de visão controlada por software incluída

1. Outros comprimentos de onda de laser disponíveis mediante solicitação.
2. Extensão para o infravermelho médio disponível mediante solicitação.
Outras 3 grades disponíveis mediante solicitação.
4 Com base em uma grade de 1200 linhas/mm a 500 nm e um CCD com pixel de 26 μm.
5. Recomenda-se o uso de objetivas refletoras ao trabalhar no ultravioleta ou ao utilizar múltiplas fontes que cubram uma ampla faixa espectral.

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