標準ガス希釈の課題
標準ガスの希釈には様々な課題があります。低濃度、腐食ガスの対応、専門性の高い操作・運用・安全対策、ガス置換、安定までの時間など。
ガスクロマトグラフイメージ図
課題に対する堀場エステックのご提案
■セットポイント1%保証のマスフローコントローラ採用により希釈精度向上
■自社開発のミキサ搭載による安定した発生
■ガス種・流量に応じ、専用設計されたガス系
■腐食性ガスにも強く、ガス置換も考慮
■発生濃度での設定、希釈率での設定機能など、簡単な操作
■発生フローについて
・発生流量と発生濃度(希釈率)より、フローを自動で選択します。
■発生流量
・発生流量の設定範囲:500SCCM~100SCCMとします。
1SCCM刻みの任意の流量設定が可能
■発生モード
・AUTO/MANUALのモードを設けます。
■安全対策
・MANUAL選択時は、各マスフローコントローラの流量設定、空圧弁開閉をすべて手動で動作します。
・外部制御で発生・停止・パージの制御が可能です。
スタンダードガスジェネレータ操作パネル例
流量比混合法
堀場エステック創立以来より続くスタンダードガスジェネレータの希釈技術は現在も形を変え、標準ガス希釈装置として様々な分析プロセスに貢献しています。
