様々な分野で混合ガスが使用されています。マスフローコントローラを用いたガス混合装置で純ガスを一定濃度に混合することで、ガスの低減・試験プロセスの効率化・各種生産プロセスでの品質向上に貢献しています。
発生するガス成分に応じたマスフローコントローラを搭載し、簡単操作で混合ガスを発生できます。操作部はタッチパネルを採用し、発生ガス濃度・流量の設定が行えます。
[主な仕様]
■総発生流量:30SLM(MAX)*
■搭載可能MFC:
SEC-E40
SEC-Z500X
*上記以上の流量でも製作可能です。
制御用ソフトは、プログラム運転機能や、ガス濃度での設定機能などを有しており、各種研究開発用途に最適なガス発生システムとしてご提供いたします。
[主な仕様]
■総発生流量:
50SLM(MAX)*
■搭載可能MFC:
SEC-N102 Series
■混合成分数:2~6成分
*上記以上の流量でも製作可能です。
高精度マスフローコントローラの搭載により、高精度な希釈ガスの供給が可能になりました。精度±1.0%（S.P.）
流量比混合法は、多成分のガスを各々正確に流量制御を行い、均一混合し、混合ガスとして発生します。
ガス濃度はガス流量に比例し、流量を制御する事により、目的とする濃度の混合ガスを発生します。
下図に、二成分混合ガス発生(成分ガス希釈)の例をご紹介します。
MU Seriesのガス混合部には、自社開発したガスミキサを搭載しており、性質の異なるガスを混合する場合でも均一に発生することができます。
ガス分析のキャリブレーション精度の課題に対し、堀場エステックはマスフローコントローラを用いた標準ガスの希釈装置で皆様の課題を解決いたします。
