Potencial Zeta de Suspensões CMP

O palestrante convidado, Dr. David Fairhurst, junta-se à HORIBA Scientific para discutir o importante papel que o potencial zeta (ZP) desempenha no desempenho das suspensões de polimento químico-mecânico (CMP). Neste webinar, revisaremos e discutiremos primeiramente a importância do ponto isoelétrico dos agentes de polimento de óxido metálico e o papel do pH da suspensão. Em seguida, examinaremos o efeito da composição química do fluido da suspensão, utilizando medições de ZP para caracterizar o desenvolvimento da carga superficial desses agentes de polimento, modulado quimicamente, durante o polimento aquoso.

Contexto: Embora o tamanho das partículas seja reconhecido há muito tempo como uma métrica importante, o aspecto mais fundamental e crítico do sistema de pasta abrasiva para polimento químico-mecânico (CMP) é a interação molecular entre as partículas em suspensão e o meio na interface. É essa interação, juntamente com as interações partícula-partícula, que determina as propriedades dinâmicas da dispersão e afeta fortemente o desempenho da pasta. No polimento, é geralmente aceito que a taxa de remoção está diretamente relacionada à disponibilidade de grupos hidroxila na superfície das partículas abrasivas. Assim, compreender o papel dos efeitos da carga superficial é importante no acabamento óptico. O potencial zeta (símbolo ζ) é um parâmetro relacionado à carga superficial (vide química interfacial), uma propriedade que todos os materiais possuem ou adquirem quando suspensos em um fluido; as medições de potencial zeta são reconhecidas há muito tempo como uma função substituta da química da superfície das partículas.