Modos de medição
AFM de contato no ar;
AFM de contato em líquido (opcional);
AFM semicontato no ar;
AFM semicontato em líquido (opcional);
AFM sem contato verdadeiro;
Microscopia de Força Dinâmica (DFM, FM-AFM);
Microscopia de Força de Dissipação;
Modo Superior;
Imagem de fase;
Microscopia de Força Lateral (LFM);
Modulação de força;
AFM condutivo (opcional);
Modo I-Top (opcional);
Microscopia de Força Magnética (MFM);
Sonda Kelvin (Microscopia de Potencial de Superfície);
Sonda Kelvin de passagem única;
Microscopia de capacitância (SCM)
Microscopia de Força Elétrica (EFM);
MFM/EFM de passagem única (“Varredura plana”);
Medições da curva de força;
Microscopia de Força de Resposta Piezoelétrica (PFM);
Modo PFM-Top;
Nanolitografia;
Nanomanipulação;
STM (opcional);
Mapeamento de fotocorrente (opcional);
Medições da característica volt-ampère (opcional).
Modos de medição em líquido com cabeçote AFM HE001 e célula de líquido
Contate a AFM;
AFM semicontato;
Modo superior;
Imagem de fase;
Microscopia de Força Lateral (LFM);
Modulação de força;
Medições da curva de força;
Nanolitografia;
Nanomanipulação.
Scanner e Base
Área de digitalização da amostra: 100 µm x 100 µm x 20 µm (±10%)
Tipo de varredura por amostra: Não linearidade XY 0,05%; Não linearidade Z 0,05%
Ruído: 0,1 nm RMS na dimensão XY em uma largura de banda de 100 Hz com os sensores de capacitância ligados; 0,02 nm RMS na dimensão XY em uma largura de banda de 100 Hz com os sensores de capacitância desligados; < 0,1 nm RMS no sensor de capacitância Z em uma largura de banda de 1000 Hz.
Frequência de ressonância: XY: 7 kHz (sem carga); Z: 15 kHz (sem carga)
Base
Posicionamento manual da amostra: alcance de 25x25mm, resolução de posicionamento de 1um;
Posicionamento da cabeça de medição SPM motorizada: 1,6x1,6mm, resolução de posicionamento de 1um;
Aproximação motorizada: 1,3 mm;
Suporte para amostras de lâminas padrão e lamínulas;
Suporte de amostra opcional: Tamanho máximo da amostra: 50,8 x 50,8 mm, 5 mm de altura, com possibilidade de selecionar uma área de medição de 25 x 25 mm em qualquer quadrante da área de 50,8 x 50,8 mm ou no centro da amostra.
Cabeçote AFM HE001
Comprimento de onda do laser: 1300 nm;
O laser de registro não influencia a amostra biológica;
O laser de registro não influencia as medições fotovoltaicas.
Ruído do sistema de registro: <0,03nm.
Totalmente motorizado: 4 motores de passo para alinhamento automático do braço cantilever e do fotodiodo.
Acesso livre à sonda para manipuladores e sondas externas adicionais;
Acesso óptico simultâneo superior e lateral: objetivas planapocromáticas de 10x, NA=0,28 e 20x, NA=0,42, respectivamente.
Célula líquida (opcional)
Posicionamento manual da amostra: alcance de 15x15mm, resolução de posicionamento de 1um;
Suporte para placa de Petri com 35 mm de diâmetro;
Volume de líquido: 1,5-2,5 ml;
Sistema de fluxo contínuo para troca de líquidos: dois tubos.
Unidade AFM condutiva (opcional)
Faixa de corrente: 100fA ÷ 10uA;
3 faixas de corrente (1nA, 100nA e 10uA) selecionáveis por programa;
Faixa de tensão: -10 ÷ +7V;
Ruído de corrente RMS: inferior a 60 fA para a faixa de 1 nA.
Compatibilidade com microscópios ópticos invertidos
O laser infravermelho não interfere na formação de imagens ópticas;
Capacidade de instalação em:
Nikon Ti-E, Ti-U, Ti-S, TE2000;
Olympus IX-71, IX-81;
Contraste de fase, DIC e técnicas de fluorescência com condensador óptico nativo;
Possibilidade de atualização para a plataforma TRIOS para operação espectroscópica e TERS.
Microscópio óptico para operação independente (opcional)
Abertura numérica: até 0,1;
Ampliação em monitor de 19" com CCD de 1/3": de 85x a 1050x.
Campo de visão horizontal: de 4,5 a 0,37 mm
Zoom manual com detentores: 12,5x
Suporte e unidade de foco grosso/fino.
Capacidade de usar objetivas planapocromáticas: 10x, NA=0,28 e 20x, NA=0,42 e 100x, NA=0,7 (dependendo da cabeça do AFM);
Software
Alinhamento automático do sistema de registro;
Configuração e pré-ajuste automáticos para técnicas de medição padrão;
Ajuste automático da frequência de ressonância do cantilever;
Capacidade de trabalhar com curvas de força;
Lua é uma linguagem de macros para programação de funções, scripts e widgets definidos pelo usuário;
Capacidade de programar o controlador com linguagem macro DSP em tempo real sem recarregar o software de controle;
Capacidade de processar imagens no espaço de coordenadas, incluindo a criação de cortes transversais, ajustes e suavização polinomial de até 8º grau;
Processamento FFT com capacidade de tratar imagens no espaço de frequência, incluindo filtragem e análise;
Nanolitografia e nanomanipulação;
Processamento de imagens de até 5000x5000 pixels.









