成膜プロセスの多様化に伴い、同種ガスのチャンバー供給流量もより幅広くなっています。MFCの流量制御においても、広範囲な流量制御を求められていますが、多くのMFCモデルが2％～100％が流量制御範囲とされています。MFCの制御範囲以上にわたる流量の制御を行うには、F.S.流量に違う2台のMFCが必要でした。CRITERIONは低流量域における流量精度向上と共に微少流量制御に対応したピエゾバルブ搭載により0.3～100％F.S.とワイドな制御範囲を可能にしました。この優れた流量制御性能は従来MFC2台分の流量レンジをカバーし、ガスパネルのダウンサイズ・軽量化等に貢献します。
