液体材料気化供給システム:MIシリーズ開発

2000年12月 4日


気化効率従来比:3倍!革新の高効率半導体材料気化システムを開発!

半導体デバイスの高密度化に伴い、デバイスに使用される材料も、高誘電率材料、低誘電率材料、低抵抗材料、強誘電体材料など呼ばれる多種多様な新材料が使用されるようになりました。
しかしこれらの新材料はほとんどの場合、蒸気圧が低く、常温では液体もしくは固体のため、ハンドリングが難しく、液体材料をいかに安定したガス状態で半導体製造装置に供給するかが課題でした。
エステックでは、これらの要求に応えるため、画期的な高効率霧化噴霧方式の液体材料気化供給装置を開発しました。
このシステムの主な構成は、今回開発した気化システム(MI)、ガス流量制御を行なうマスフローコントローラ(SEC)、液体材料の流量計測を行う液体マスフローメータ(LF-A)から構成されています。
液体材料は、LF-Aにより流量計測、またガスはSECにより流量制御され気化システム(MI)へ導入されます。
導入されたガスと液体はMI内部で、圧力と温度が最適化制御されることにより、高効率な霧化噴霧を実現しました。
これにより、従来比3倍の高効率材料気化が可能となり、大流量液体材料の気化や従来は難しかった低蒸気圧材料、今後大きな広がりが見込まれる強誘電体材料などの気化にも可能となりました。
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