APPLICATIONS

フォトマスク製造/リソグラフィプロセス

フォトマスク製造

Application 1 - ブランクマスク検査 / Application 2 - パターン付レティクル検査 / Application 3 - ペリクル検査

リソグラフィプロセス(露光工程)

Application 2 - パターン付レティクル検査 / Application 3 - ペリクル検査 / Application 4 - 異物除去

ブランクマスク検査において、高スループットで0.1μmまでのブランクマスク上の異物検出が可能です。
多段ケースにによる複数サンプルの連続測定も可能です。

●サンプルサイズ:6 inch
●サンプルケース:シングルPod又は多段スロット

レティクル/マスク異物検査装置 PD Xpadion

パターン付レティクル検査において、幅広い種類のマスクやレティクルの異物検査が可能です。
簡単な操作と0.5μm感度で高スループット測定を実現。複数倍率の顕微鏡を内蔵しているため測定後に異物の観察と画像データの保存も可能です。
オートフォーカスやオートキャプチャー機能を備えており、コンパクトな装置設計で設置スペース削減に貢献します。

【特徴】
 ● 3面検査可能:パターン/ガラス/ペリクル
 ● 各サンプルサイズ対応:5 inch/6 inch/7 inch/9 inch
 ● 高スループット:3面検査で約15分
 ● 各種サンプルケース対応:SMIF Pod/各ステッパーケース
 ● 幅広いオプション:オートキャプチャー/オートサイジング機能、OHT/AGV接続対応

レティクル/マスク異物検査装置 PD Xpadion

ペリクル検査において、最先端のペリクル膜に付着した異物を高スループットで検査することが可能です。
測定に必要なペリクルの専用アダプターも製作が可能です。

レティクル/マスク異物検査装置 PD Xpadion

検査結果表示画面

異物画像表示画面

異物除去において、レティクル、ペリクル表面に付着した異物をエアー/N2ブローと真空吸引で自動的に除去が可能です。
また、除去したパーティクルの再付着を防ぎます。

●ランニングコストの削減
 日常的な異物除去作業によりペリクルの交換サイクル、マスクの洗浄サイクルを伸ばし、ランニングコスト低減に貢献します。

レティクル/マスク/ウェハ異物除去装置 RP-1

 

サンプルサイズ:6 inch

サンプルケース: SMIF Pod又はステッパーケース