レティクル／マスク／ウェハ異物除去装置
RP-1は、エアー（またはN2）ブローと真空吸引によって、レティクルやペリクル表面に付着した異物を自動的に除去します。定期的に異物を除去することで、ペリクルの交換周期やマスクの洗浄周期を延長でき、ランニングコストの低減に貢献します。
異物をブローで除去しながら、同時に真空吸引を行うことで、ペリクル表面への異物の再付着を効果的に防ぎます。
上下両面に付着した異物を一度に除去できるため、処理時間が大幅に短縮。1枚あたり約1分という高いスループットを実現し、作業効率を飛躍的に向上させます。
作業の自動化によりエンジニアの負担を軽減。手作業（マニュアルブロー等）に起因する接触・破損リスクを低減し、人手で扱わないことで帯電を抑制、静電破壊リスクの低減にも貢献します。
異物検査装置 PD10 と組み合わせることで、異物除去とレティクル検査をシームレスに連続処理。効率的な品質管理が可能です。
異物検出と除去を1台で完結できる一体型の 異物検査装置 PD10-EX もご用意しております。
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※付着異物は時間経過により除去しにくくなる場合があります。マスク製造工程からの定期的な異物除去を推奨します。
| 外形寸法 | 1320（W）× 1200（D）× 1600（H）mm |
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除去性能（参考値） ※HORIBA標準ガラスビーズに基づく |
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対応マスク／レティクルサイズ | 5 / 6 / 7 / 9 inch ペリクル付きマスク（※サイズはいずれか1種を指定） |
除去時間（目安） | 約1分 |
対応可能ケース | Nikon / Canon / SMIF POD 等（※ケースタイプはいずれか1種を指定） |
除去範囲 | レティクル／マスク外周から5 mmの領域は除去性能保証対象外 |
電源 | AC 100～240 V、50/60 Hz、1 kVA |
必要ユーティリティ | 電源 / CDA または N₂ / 真空 / 排気ダクト |
※付着異物は時間経過により除去しにくくなる場合があります。マスク製造工程からの定期的な異物除去を推奨します。
