Espectrômetro de Emissão Óptica por Descarga Luminescente de Radiofrequência Pulsada
O GD-Profiler 2™ proporciona uma análise rápida e simultânea de todos os elementos de interesse, incluindo os gases nitrogênio, oxigênio, hidrogênio e cloro. É uma ferramenta ideal para a caracterização de filmes finos e espessos e para estudos de processos.
Equipado com uma fonte de radiofrequência que pode operar em modo pulsado para amostras frágeis, o GD-Profiler 2™ tem uma ampla gama de aplicações, desde estudos de corrosão até o controle de processos de revestimento PVD, do desenvolvimento de células fotovoltaicas de filme fino ao controle de qualidade de LEDs, sendo utilizado tanto em universidades quanto em laboratórios de pesquisa industrial.
O gerador RF-Only é padrão Classe E e otimizado para estabilidade e formato de cratera, permitindo análises de superfície reais.
A fonte pode ser pulsada com aquisição sincronizada para resultados ótimos em amostras frágeis. O uso de uma fonte de radiofrequência permite a análise de camadas e materiais convencionais e não convencionais.
A óptica simultânea proporciona cobertura espectral completa de 110 a 800 nm, incluindo acesso ao ultravioleta profundo para analisar H, O, C, N e Cl.
A detecção patenteada de HDDs proporciona velocidade e sensibilidade na detecção, sem comprometer a qualidade.
O compartimento de amostras de fácil acesso oferece amplo espaço para o carregamento da amostra.
Poderoso software QUANTUM™ com ferramenta de criação de relatórios Tabler.
Ponteiro laser CenterLite (patente pendente) para carregamento preciso de amostras.
A opção de monocromador, disponível exclusivamente pela HORIBA oferece a ferramenta perfeita para aumentar a flexibilidade do instrumento, adicionando a capacidade "n+1".
Combinação de uma potente fonte de descarga luminescente com óptica simultânea de alta resolução ultrarrápida para análise rápida do perfil de profundidade elementar de materiais condutores, não condutores e híbridos.
Para filmes finos e espessos – de nanômetros a centenas de micrômetros com resolução de profundidade nanométrica.
Os domínios típicos de aplicação incluem energia fotovoltaica, metalurgia, fabricação de LEDs, estudos de corrosão, eletrônica orgânica e microeletrônica, pesquisa e desenvolvimento de materiais, otimização de processos de deposição, PVD, CVD, revestimentos de plasma, indústria automotiva, baterias de lítio, etc.
Não é necessário UHV.
Medição de todos os elementos de interesse (incluindo H, D, O, Li, Na, C, N etc.) com detectores de alta dinâmica patenteados.
Monocromador opcional com modo de imagem e detecção dinâmica avançada para registro de espectro completo e total flexibilidade.
Fonte de RF pulsada para operação em modos RF e RF pulsada com adaptação automática.
Bombeamento duplo diferencial da fonte para preparação de amostras SEM patenteada.
Função de limpeza a plasma integrada
Tecnologia UFS patenteada para pulverização catódica ultrarrápida de materiais poliméricos e orgânicos.
DIP patenteado– interferômetro integrado para medição direta de profundidade em linha.
Diversos diâmetros de ânodo e acessórios para amostras com formatos irregulares.
Software Windows 10– Várias cópias fornecidas para instalações remotas.
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