UVISEL Plus In-Situ

UVISEL PLUS IN SITU Ellipsometry HORIBA FR

在线监控椭偏仪

UVISEL Plus在线监控椭偏仪可以很容易的安装在各类反应腔(PECVD、MOCVD、磁控溅射、蒸镀、ALD和MBE),实时监控薄膜沉积或刻蚀过程

UVISEL Plus在线椭偏仪结合了速度快、灵敏度高、动态范围宽和准确等优点,使其能够在原子层水平监控沉积/刻蚀,即使过程速度比较快也可实现。

采用新型适配器组件可以实现台式设备和在线系统的切换。

UVISEL Plus在线椭偏仪使用DeltaPsi2软件驱动,该软件适用于HORIBA所有椭偏仪。DeltaPsi2具有众多先进的建模和拟合处理功能,操作界面简单,可为研究者提供便捷的椭偏分析手段。先进的通讯协议,TCP/IP和RS232已被设计用于生产环境和OEM。

事业部: 科学仪器
产品分类: 椭圆偏振光谱仪
制造商: HORIBA Scientific
  • 高速、准确
  • 完整集成了实时测量、建模和报告软件包
  • 便于在线和离线间切换

 

可获得的信息

  • 薄膜厚度
  • 光学常数(n,k)
  • 材料组成
  • 光谱范围:190-885 nm,可扩展至 190-2100 nm
  • 光源:75W氙灯或150W氙灯
  • 探测系统:单点或实时光谱采集使用高灵敏度,宽动态范围的PMT探测器和扫描单色仪,原位监控薄膜沉积/蚀刻
  • 光斑尺寸@300:50μm , 100μm & 1mm
  • 机械适配器:CF35或KF40法兰

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