![脉冲式射频GD-OES分析含有金属和金属氧化物纳米颗粒的薄膜](http://static.horiba.com/fileadmin/Horiba/_processed_/e/b/csm_Pulsed_RF_GDOES_for_the_analysis_of_films_containing_metal_and_metal_oxide_nanoparticles_bb31551f0c.jpg)
辉光源结合超快速、高分辨的同步光学器件,可对导体、非导体和复合材料进行快速元素深度剖析。
适用于薄膜和厚膜——从纳米到数百微米,且具有纳米级深度分辨率。
典型应用领域包括光伏、冶金、LED 制造、腐蚀研究、有机和微电子、材料研发、沉积工艺优化、PVD、CVD、等离子涂层、汽车、锂电池等。
不需要超高真空。
使用高动态探测器可以测量所有感兴趣的元素(包括 H、D、O、Li、Na、C、N 等)。
可选附件单色仪配备的也是高动态探测器,可在image模式下做全谱扫描,极大的增加了设备的灵活性。
脉冲式射频源,可选择在常规射频模式和脉冲式射频模式下工作,且可全自动匹配。
辉光源采用差速双泵真空系统,可为SEM制备样品。
内置等离子清洗功能。
超快速溅射模式UFS可快速分析聚合物和有机材料。
内置的微分干涉仪DIP,可直接在线测定深度。
用于异形样品测试的各种铜阳极和附件。
Windows 10 软件 – 为远程安装提供多个副本