Modos de medición
Contactar con AFM en el aire;
Contacta con AFM en líquido (opcional);
Semicontacto AFM en el aire;
AFM semicontacto en líquido (opcional);
AFM verdaderamente sin contacto;
Microscopía de Fuerza Dinámica (DFM, FM-AFM);
Microscopía de fuerza de disipación;
Modo Superior;
Imagen de fase;
Microscopía de Fuerza Lateral (LFM);
modulación de fuerza;
AFM conductor (opcional);
Modo I-Top (opcional);
Microscopía de Fuerza Magnética (MFM);
Sonda Kelvin (Microscopía de Potencial de Superficie);
Sonda Kelvin de paso único;
Microscopía de Capacitancia (SCM)
Microscopía de Fuerza Eléctrica (EFM);
MFM/EFM de paso único ("escaneo plano");
Mediciones de curvas de fuerza;
Microscopía de Fuerza de Respuesta Piezoeléctrica (PFM);
Modo PFM-Top;
Nanolitografía;
Nanomanipulación;
STM (opcional);
Mapeo de Fotocorriente (opcional);
Mediciones de características de volt-amperio (opcionales).
Modos de medición en líquido con cabeza AFM HE001 y celda líquida
Contacta con AFM;
AFM semicontacto;
TopMode;
Imagen de fase;
Microscopía de Fuerza Lateral (LFM);
modulación de fuerza;
Mediciones de curvas de fuerza;
Nanolitografía;
Nanomanipulación.
Escáner y base
Rango de escaneo de muestras: 100 μm x 100 μm x 20 μm (±10 %)
Tipo de escaneo por muestra: XY no linealidad 0,05 %; No linealidad Z 0,05 %
Ruido: 0,1 nm RMS en dimensión XY en ancho de banda de 100 Hz con sensores de capacitancia activados; 0,02 nm RMS en dimensión XY en ancho de banda de 100 Hz con sensores de capacitancia desactivados; < sensor de capacitancia RMS Z de 0,1 nm en ancho de banda de 1000 Hz
Frecuencia de resonancia: XY: 7 kHz (sin carga); Z: 15 kHz (sin carga)
Base
Posicionamiento manual de la muestra: rango 25x25mm, resolución de posicionamiento 1um;
Posición de cabeza de medición de SPM motorizada: 1,6x1,6mm, resolución de posicionamiento 1um;
Aproximación motorizada: 1,3 mm;
Portamuestras para portaobjetos estándar y gafas de cubierta;
Soporte de muestra opcional: tamaño máximo de muestra: 50,8x50,8 mm, 5 mm de altura con posibilidad de elegir área de medición 25x25 mm en cualquier cuadrante de área de 50,8x50,8 mm o en el centro de la muestra.
Cabeza AFM HE001
Longitud de onda del láser: 1300nm;
No hay influencia láser de registro sobre la muestra biológica;
Sin influencia del láser de registro en las mediciones fotovoltaicas.
Ruido del sistema de registro: <0,03 nm.
Totalmente motorizado: 4 motores paso a paso para alineación automatizada de voladizo y fotodiodo.
Acceso libre a la sonda para manipuladores y sondas externas adicionales;
Acceso óptico simultáneo superior y lateral: objetivos planapocromáticos 10x, NA=0,28 y 20x, NA=0,42 respectivamente.
Celda líquida (opcional)
Posicionamiento manual de la muestra: alcance 15x15mm, resolución de posicionamiento 1um;
Soporte para placa de Petri de diámetro 35mm;
Volumen de líquido: 1,5-2,5 ml;
Flujo directo para intercambio líquido: dos tubos.
Unidad AFM conductora (opcional)
Rango actual: 100fA ÷ 10uA;
3 rangos de corriente (1nA, 100na y 10uA) conmutables desde el programa;
Rango de voltaje: -10 ÷ +7V;
Ruido de corriente RMS: menos de 60fA para rango de 1nA.
Compatibilidad con microscopios ópticos invertidos
No hay interferencias con la imagen óptica debido al láser infrarrojo;
Capacidad para instalar en:
Nikon Ti-E, Ti-U, Ti-S, TE2000;
Olympus IX-71, IX-81;
Contraste de fase, DIC y técnicas fluorescentes con condensador óptico nativo;
Posibilidad de actualización a TRIOS plataforma para operación espectroscópica y TERS.
Microscopio óptico para operación autónoma (opcional)
Apertura numérica: hasta 0,1;
Aumento en monitor de 19" con CCD de 1/3": de 85x a 1050x.
Campo de visión horizontal: de 4,5 a 0,37 mm
Zoom manual de retención: 12,5x
Soporte y unidad de enfoque grueso/fino;
Capacidad para usar objetivos planapocromatos: 10x, NA=0,28 y 20x, NA=0,42 y 100x, NA=0,7 (depende de la cabeza AFM);
Software
Alineación automática del sistema de registro;
Configuración automática y preajuste para técnicas estándar de medición;
Ajuste automático de frecuencia de resonancia en voladizo;
Capacidad para trabajar con curvas de fuerza;
Macro lenguaje Lua para programar funciones de usuario, scripts y widgets;
Capacidad para programar el controlador con lenguaje de macros DSP en tiempo real sin necesidad de recargar software de control;
Capacidad para procesar imágenes en espacio de coordenadas, incluyendo la realización de secciones transversales, ajuste y suavizado de polinomios de hasta 8 grados;
Procesamiento FFT con capacidad para tratar imágenes en espacio de frecuencias, incluyendo filtración y análisis;
Nanolitografía y nanomanipulación;
Procesando imágenes de hasta 5000x5000 píxeles.









