Modos de medición

• Contactar con AFM en el aire;
• Contacta con AFM en líquido (opcional);
• Semicontacto AFM en el aire;
• AFM semicontacto en líquido (opcional);
• AFM verdaderamente sin contacto;
• Microscopía de Fuerza Dinámica (DFM, FM-AFM);
• Microscopía de fuerza de disipación;
• Modo Superior;
• Imagen de fase;
• Microscopía de Fuerza Lateral (LFM);
• modulación de fuerza;
• AFM conductor (opcional);
• Modo I-Top (opcional);
• Microscopía de Fuerza Magnética (MFM);
• Sonda Kelvin (Microscopía de Potencial de Superficie);
• Sonda Kelvin de paso único;
• Microscopía de Capacitancia (SCM)
• Microscopía de Fuerza Eléctrica (EFM);
• MFM/EFM de paso único ("escaneo plano");
• Mediciones de curvas de fuerza;
• Microscopía de Fuerza de Respuesta Piezoeléctrica (PFM);
• Modo PFM-Top;
• Nanolitografía;
• Nanomanipulación;
• STM (opcional);
• Mapeo de Fotocorriente (opcional);
• Mediciones de características de volt-amperio (opcionales);
• Microscopía de fuerza cortante con diapasón (ShFM);
• Microscopía de Fuerza Normal con diapasón.

SmartSPM Escáner y base

Rango de escaneo de muestras: 100 μm x 100 μm x 15 μm (±10 %)

Tipo de escaneo por muestra: XY no linealidad 0,05 %; No linealidad Z 0,05 %

Ruido: < 0,1 nm RMS en dimensión XY en ancho de banda de 200 Hz con sensores de capacitancia activados; < 0,02 nm RMS en dimensión XY en ancho de banda de 100 Hz con sensores de capacitancia desactivados; < Sensor de capacitancia RMS Z de 0,04 nm en ancho de banda de 1000 Hz

Frecuencia de resonancia: XY: 7 kHz (sin carga); Z: 15 kHz (sin carga)

Movimiento X, Y, Z: Control digital en lazo cerrado para los ejes X, Y y Z; Alcance de aproximación motorizado en Z: 18 mm

Tamaño de muestra: máximo 40 x 50 mm, grosor 15 mm

Posicionamiento de la muestra: Rango motorizado de posicionamiento de muestras 5 x 5 mm

Resolución de posicionamiento: 1 μm

Cabeza AFM HE001

Longitud de onda del láser: 1300nm;

No hay influencia láser de registro sobre la muestra biológica;

Sin influencia del láser de registro en las mediciones fotovoltaicas.

Ruido del sistema de registro: <0,03nm.

Totalmente motorizado: 4 motores paso a paso para alineación automatizada de voladizo y fotodiodo.

Acceso libre a la sonda para manipuladores y sondas externas adicionales;

Acceso óptico simultáneo superior y lateral: objetivos planapocromáticos 10x, NA=0,28 y 20x, NA=0,42 respectivamente.

Cabeza AFM HE002*

Longitud de onda del láser: 1300nm;

No hay influencia láser de registro sobre la muestra biológica;

No hay influencia del láser de registro en las mediciones fotovoltaicas;

Ruido del sistema de registro: <0,1nm;

Totalmente motorizado: 4 motores paso a paso para alineación automatizada de voladizo y fotodiodo;

Acceso libre a la sonda para manipuladores y sondas externas adicionales;

Acceso óptico simultáneo superior y lateral: con objetivos planapocromatos, objetivo lateral hasta 100x, NA=0,7, objetivo superior 10x, NA=0,28 simultáneamente;

* Con HE002, el contacto y el AFM semicontacto en líquido son imposibles.

Microscopio óptico

Apertura numérica: hasta 0,1;

Aumento: en un monitor de 19" con CCD de 1/3" de 85x a 1050x;

Campo de visión horizontal: de 4,5 a 0,37 mm;

Zoom manual de retene: 12,5x (zoom motorizado opcional);

Soporte y unidad de enfoque grueso/fino;

Capacidad para usar objetivos planapocromáticos 10x, NA=0,28 y 20x, NA=0,42 y 100x, NA=0,7 (depende de la cabeza AFM);

Celda líquida (opcional)

Tamaño de muestra: 2 mm de grosor, 25 mm de diámetro;

Rango de posicionamiento de muestra: 5x5mm;

Resolución de posicionamiento: 1um;

Tamaño de celda: 40x40x12mm;

Volumen de líquido: 3 ml;

Capacidad de intercambio líquido;

Autoclave y limpieza ultrasónica de partes celulares.

Celda líquida con control de temperatura (opcional)

Tamaño de muestra: 2 mm de grosor, 25 mm de diámetro;

Calefacción: hasta 60°C;

Refrigeración: por debajo de la temperatura ambiente hasta 5°C;

Rango de posicionamiento de muestra: 5x5mm;

Resolución de posicionamiento: mejor que 1,5um;

Tamaño de celda: 40x40x12mm;

Volumen de líquido: 3 ml;

Capacidad de intercambio líquido;

Autoclave y limpieza ultrasónica de partes celulares.

Unidad AFM conductora (opcional)

Rango actual: 100fA ÷ 10uA;

3 rangos de corriente (1nA, 100na y 10uA) conmutables desde el programa;

Rango de voltaje: -10 ÷ +7V;

Ruido de corriente RMS: menos de 60fA para rango de 1nA.

De conductivo a modo Kelvin conmutable desde el programa.

Soporte combinado de fuerza de corte y fuerza normal para diapasón (opcional)

Compatible con diapasones con frecuencia de resonancia libre 32.768 kHz;

Dos tipos de PCB para fijación con diapasón para la fuerza cortante y el funcionamiento normal de la fuerza;

Excitación piezocerámica de la vibración del diapasón;

Preamplificador integrado para bajo ruido;

Compatible con objetivos laterales 100x para mediciones TERS \TEPL;

Compatible con 10x top objectivo.

Unidad Nanoindenter (opcional)

Carga máxima: 5 mN.

Ruido de carga de fondo: menos de 100nN.

Ruido de nivel de desplazamiento: menos de 0,2 nm.

Compatibilidad con sistemas ópticos

No hay interferencias con la imagen óptica debido al láser infrarrojo;

Posibilidad de actualización a OmegaScope para operación espectroscópica, fotovoltaica, SNOM y TERS y TEPL.

Caja de protección con soporte para microscopio óptico (opcional)

Aislamiento acústico: 30dB;

Blindaje electrostático;

Conexiones de entrada y salida para conexión de control ambiental;

Enfocar con tornillo micrómetro ± 6,5 mm;

Lectura del micrometro: 10 mmm;

Sensibilidad de enfoque: mejor 1um;

Elevación rápida de servicio: alcance hasta 98 mm;

Posicionamiento XY: ± 2 mm;

Enfoque fino opcional para objetivo 100x:

Enfoque fino 0,2 mm;

Lectura del micrómetro 0,5 mmm;

Mejor sensibilidad de enfoque 0,1 um;

Sistema de control de humedad (opcional)

Rango de humedad relativa: 10-85%;

Estabilidad relativa de humedad: ±1%;

Software

Alineación automática del sistema de registro;

Configuración automática y preajuste para técnicas estándar de medición;

Ajuste automático de frecuencia de resonancia en voladizo;

Capacidad para trabajar con curvas de fuerza;

Macro lenguaje Lua para programar funciones de usuario, scripts y widgets;

Capacidad para programar el controlador con lenguaje de macros DSP en tiempo real sin necesidad de recargar software de control;

Capacidad para procesar imágenes en espacio de coordenadas, incluyendo la realización de secciones transversales, ajuste y resta de superficies polinómicas hasta 12 grados;

Procesamiento FFT con capacidad para tratar imágenes en espacio de frecuencias, incluyendo filtración y análisis;

Nanolitografía y nanomanipulación;

Procesando imágenes de hasta 5000x5000 píxeles.