IR-200

Gas Monitor for Chamber Cleaning End Point Monitoring

챔버 Cleaning End Point 모니터링을 위한 IR-200 가스 모니터입니다. IR-200은 SiF₄ 가스 농도를 실시간으로 모니터링하고 SiF₄ 가스 농도를 기준으로 세척 종료 지점을 식별합니다.

Manufacturing Company: HORIBA, Ltd.

Monitor SiF₄ concentration up to 5000 ppm
Compact design
Can be instralled into exhaust lines
In addition to SiF₄, this gas monitor can be used to measure CIF₃ and other gases.

Model name	IR-200
Measurement Gas	SiF₄gas
Measurement Range	0 to 5000ppm(0 to 500Pa)
Repeatability	±1%F.S.
Cell length	30mm, 1.2 in
Response Time	30 seconds or less (T90)
Pressure Resistance	0.3MPa(A)
Gas Cell Heating Temperature	150 ℃ (Max)
Contact Material	SUS-316L、BaF₂、FKM
Leak Rate	1×10^-10Pa・m³/s
Fitting	NW25 Flange
Analog Output	4 to 20 mA DC
Contact Output	3 channels (ERR、High、Low)
Contact Input	1 channel for zero calibration
Power	24 V DC, 30 W (Max)
Dimension (W x H X D)	Sensor： 150×268×90mm / 3.5x5.9x10.6 in Controller： 48×96×130mm / 1.9x3.8x5.1 in
Mass	Sensor：4.5kg / 9.9 lb Controller：0.5kg / 1.1 lb

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