¿Cuáles son las fuentes de luz en VUV?

Las instalaciones de radiación sincrotrón proporcionan una intensa radiación continua desde las microondas (armónicos del campo RF impulsor) hasta las regiones espectrales de rayos X, emitida por electrones de alta energía que son acelerados centrípetamente en los campos magnéticos de un anillo de almacenamiento. Sus haces están polarizados y cuasi-colimados.

Esta es la fuente de luz ideal, la más potente y sin duda la más cara jamás construida, con sus enormes tamaños (varios cientos de metros de diámetro) y sus complejidades en un entorno de ultra alto vacío.

Hay menos de cien instalaciones de sincrotrón en todo el mundo.

Un FEL es la cuarta generación de sincrotrón. Es un tipo de láser que utiliza electrones acelerados hasta la velocidad de la luz y luego cruzan un ondulador muy largo (matriz lineal hecha con imanes). Debido a la alternancia de polaridades de los imanes, la trayectoria del electrón se vuelve sinusoidal. Este efecto produce una emisión de radiación. Los FELL tienen muchos puntos en común con los sincrotrones: sus regiones de emisión, sus potencias, sus tamaños, sus complejidades y sus costes. Estos láseres son sintonizables desde microondas hasta rayos X.

Cuando la salida de un láser pulsado de alta potencia se enfoca en un objetivo sólido, se crea un plasma de alta densidad (~1021 cm-3) de corta duración (nanosegundos), alta densidad (~1021 cm-3). La radiación de ciertos materiales objetivo, especialmente las tierras raras y metales vecinos en la tabla periódica, produce un cuasi-continuo VUV fuerte que está esencialmente libre de líneas discretas. Los continuos son más intensos en la región de 4 a 30 millas náuticas, pero a menudo se extienden hasta unos 180 millas náuticas.

Debido a su rango limitado de emisiones, los LPP se utilizan principalmente en astronomía y en las industrias de semiconductores (microlitografía). Arcos, chispas y descargas.

Varias fuentes de luz VUV emiten líneas VUV y/o radiaciones continuas. Se basan en descargas de gases, arcos de alta presión, chispas de baja presión y de vacío. Estas fuentes no son tan intensas como la radiación sincrotrón y los plasmas inducidos por láser, pero son portátil y económicas.

• H ₂ y _{D 2} Descargas: 115~350 nm, dependiente del material de la bombilla;
• Mini arco de AR: desde el ultravioleta cercano hasta aproximadamente 115 nm;
• Descargas de gas inerte: Las descargas de plasma generadas a través de He, Ar, Kr y Xe cubren principalmente la región de 20 a 700 nm. Algunos diseños disponibles son Penning, cátodo hueco bombeado, plasma capilar o fuente Datomy.