El pulido químico-mecánico (CMP) es un paso crucial en la fabricación de semiconductores. Cuantificar los componentes de la suspensión es crucial para asegurar una suspensión eficaz que no dañe la oblea. Las técnicas actuales de cuantificación, como la cromatografía iónica (IC) y la cromatografía líquida a alta presión (HPLC), tienen excelentes límites de detección, pero son difíciles, costosas y requieren usuarios experimentados. En esta nota de aplicación, se explora la espectroscopía Raman como una técnica más sencilla y flexible para cuantificar componentes comunes en una suspensión CMP, como benzotriazol y glicina, sin preparación de muestras ni consumibles costosos. Los resultados muestran que la espectroscopía Raman puede alcanzar límites estimados de detección y cuantificación de benzotriazol de menos del 0,025% y 0,10% (ambos en porcentaje de masa), respectivamente, lo que convierte la espectroscopía Raman en una alternativa ideal a las técnicas más costosas y que consumen mucho tiempo como la IC y la HPLC.
Espectrómetro Raman de Sobremesa
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