Combinación de una potente fuente de descarga luminosa con ópticas simultáneas ultrarrápidas de alta resolución para un análisis rápido del perfil de profundidad elemental de materiales conductores, no conductores e híbridos.

Para películas finas y gruesas, desde nanométricos hasta cientos de micras con resolución en profundidad nanométrica.

Los dominios típicos de aplicación incluyen fotovoltaica, metalurgia, fabricación de LEDs, estudios de corrosión, electrónica orgánica y micro, investigación y desarrollo de materiales, optimización de procesos de depósito, PVD, CVD, recubrimientos de plasma, automoción, baterías de Li, etc

No se requiere UHV.

Medición de todos los elementos de interés (incluyendo H, D, O, Li, Na, C, N, etc.) con detectores de alta dinámica patentados.

Monocromador opcional con modo Imagen y alta detección dinámica para grabación de espectro completo y total flexibilidad.

Fuente de RF pulsada para funcionamiento en modos RF y RF pulsado con auto-coincidencia

Doble bombeo diferencial de la fuente para la preparación patentada de muestras de SEM

Función de limpieza por plasma integrada

UFS patentado para pulverización ultrarrápida de materiales poliméricos y orgánicos

DIP patentado– interferómetro integrado para medición directa de profundidad en línea

Diversos diámetros de ánodo y accesorios para muestras de formas impares

Software para Windows 10– Múltiples copias proporcionadas para instalaciones remotas