반도체 리소그래피 공정에서 수율을 높이기 위해서는 HORIBA의 입자 감지 및 제거 시스템이 필수적입니다. 이러한 시스템은 높은 신뢰성과 장기적인 안정성을 가진 레티클/마스크에서 입자를 감지합니다. 이 시스템은 각 유리/펠리클 표면의 입자를 정밀하고 높은 처리량으로 측정할 수 있으며 모든 반도체 제조 시설의 수율 향상에 기여합니다.

PDXpadion은 마스크 숍의 레티클/포토마스크에서 표면 미립자의 이미지를 감지, 분석 및 캡처하도록 설계된 완전 자동화된 레이저 산란 기반 입자 감지 시스템입니다. PDXpadion은 입자 검출 외에도 라만 분석, 펠리클 막 두께 및 균일성, 펠리클 상태 모니터링 도구에 의한 입자 특성화를 구현하도록 설계되었습니다.

PD Xpadion has an advantage over built-in type particle inspection units, it can detect particles on pellicle/glass surface without any false detection.

Information Obtained: Particle detection and location / particle size and particle image / particle material analysis (raman analysis)

PD Xpadion: automatic or manual / particle sizing tools for advanced analysis