Scientific

Spectroscopic Ellipsometry

분광 타원계

박막 특성화에 가장 적합한 기술

분광 타원은 얇은 층과 표면 특성화에 널리 사용되는 표면 민감성, 비파괴성, 비침입성 광학 기법입니다. 간단하게 박막 시료에서 비스듬히 반사되면서 빛의 편광 상태 변화를 기반으로 측정합니다. 물질의 종류에 따라, 분광 타원계는 몇 Å에서 수십 미크론(㎛)의 두께를 측정할 수 있으며, 다층 박막 측정에도 적합한 기술입니다.

분광 타원 측정법은 층 두께, 광학 특성(n,k), 광학 밴드 갭, 계면 및 거칠기 두께, 필름 조성, 깊이 및 면적에 따른 균일성 등과 같은 다양한 박막 특성을 특성화할 수 있게 합니다.

분광 타원계에 적합한 재료로는 반도체, 유전체, 고분자, 유기물, 금속 등이 있습니다. 타원측정법은 고체-액체 또는 액체-액체 계면을 연구하는 데도 사용될 수 있다.

HORIBA 분광 타원계는 혁신적인 기술을 사용하여 기계적 움직임 없이 고주파 편광 변조 측정을 수행하여 기존 타원계에 비해 빠르고 넓은 범위와 높은 특성 정밀도를 제공합니다.

비디오 및 웹 세미나

트레이닝용 비디오를 보면서 분광 타원 측정에 대해 자세히 알아본 뒤,  웹 세미나 컬렉션을 사용하여 응용 프로그램에 대해 알아보십시오.

트레이닝

HORIBA의 분광 타원 측정 전문가가 보유하고 계신 HORIBA Scientific 기기를 최대로 활용할 수 있도록 가이드 및 어드바이스를 제공합니다. 표본 분석에 대한 자신감과 경험을 쌓을 수 있습니다.

기술 및 FAQ

분광 타원은 박막 샘플에서 비스듬히 반사되면서 빛의 편광 상태 변화를 기반으로 하는 비파괴, 비접촉 및 비침습 광학 기법입니다. 이 기술에 대한 자세한 내용은 아래 링크에서 확인하세요.

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