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二维材料的产业化及其在电子设备中的应用,不仅取决于对其在大晶圆上沉积均匀性的评估,还取决于如何克服降低高质量晶体的缺陷,以及如何在工艺步骤中保持材料质量。
应用领域:CMOS、电极、屏障
材料:石墨烯、过渡金属二硫化物、六方氮化硼(h-BN)
4英寸晶圆的石墨烯拉曼图像
缺陷的高分辨率拉曼图像
D/G分布峰值分析
光致发光和拉曼晶圆成像
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