化学机械抛光液中常见组分的拉曼定量研究

化学机械抛光(CMP)是半导体制造中的一个关键步骤。精确定量抛光液的成分能确保其效能并防止晶片受损。目前主流的定量技术,如离子色谱(IC)和高压液相色谱(HPLC)虽然具有很好的检测下限,却面临着操作复杂度高、成本昂贵以及对操作人员专业技能要求严格的挑战。本应用文档将使用更简单、灵活的拉曼光谱技术,用于定量 CMP 抛光液中的常见组分,如苯并三唑和甘氨酸。整个过程无需繁琐的样品预处理,亦无需耗资巨大的消耗品。结果表明,拉曼光谱对苯并三唑的检测和定量限分别小于 0.025% 和 0.10% (均为质量百分数)。因此,相对于 IC 和 HPLC  等成本较高、耗时较长的技术来说,拉曼光谱是一个理想的替代方法。

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