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UVISEL 2 VUV

Un elipsómetro espectroscópico versátil que cubre un amplio rango desde VUV hasta NIR

Un elipsómetro espectroscópico versátil que cubre un rango que va desde VUV hasta NIR

El UVISEL 2 VUV es una nueva generación de elipsómetro de modulación de fase para mediciones de VUV. Es el único elipsómetro espectroscópico del mercado diseñado para ofrecer las mediciones más rápidas de película delgada en el rango más amplio de longitudes de onda, desde 147 hasta 2100 nm.

El UVISEL 2 VUV es "un elipsómero híbrido", capaz de operar en 2 modos: bajo nitrógeno o vacío primario. Su diseño mecánico está optimizado para un bajo consumo de nitrógeno hasta 6L/min, y permite una carga rápida de muestras, que tarda menos de dos minutos. La cámara fácilmente accesible delantera hace que la carga de muestras sea muy cómoda.

El UVISEL 2 VUV proporciona una alta sensibilidad en longitudes de onda VUV. Integra dos fuentes de energía de alta potencia, ópticas de alto rendimiento, un modulador fotoelástico CaF2 y dos monocromadores modernos. La medición de muestras tarda menos de 8 minutos desde 147 hasta 850 nm con una excelente relación señal-ruido.

El UVISEL 2 VUV revoluciona el mundo de los elipsómetros de VUV al reducir significativamente el consumo de nitrógeno y el tiempo que tarda en purgar y medir las muestras.

El conocido software DeltaPsi2 controla el elipsóter UVISEL 2 VUV, ofreciendo potentes funciones de adquisición, modelado e informe. La interfaz de usuario es intuitiva y adecuada tanto para la investigación como para el uso industrial.

El UVISEL 2 VUV ofrece una velocidad de medición inigualable y bajos costes operativos, lo que lo convierte en el elipsómetro ideal para la caracterización de numerosas aplicaciones de película fina desde 147 hasta 2100 nm. El elipsómetro UVISEL 2 VUV puede personalizarse y automatizarse para producción.

Segment: Científico

Division: Elipsometría Espectroscópica

Empresa de Fabricación:HORIBA France SAS

Carga rápida de muestras
Purga rápida
Menor consumo de nitrógeno
Medición muy rápida
Dos modos de operación: bajo nitrógeno o vacío primario

Dieléctrico de alta k, espesor a nanoescala, estudiado mediante elipsometría espectroscópica y FTIR-ATR

Se están investigando dieléctricos de alta k-gradación para reemplazar al dieléctrico convencional de puerta SiO2 o SiOxNy en muchas aplicaciones de dispositivos CMOS (Complementario Semiconductor de Óxido Metálico). En este estudio se investigaron los óxidos de aluminio de hafnio (HfAlO) ya que cumplen las propiedades físicas requeridas para dichas aplicaciones. La estructura y composición de las películas de aluminato de hafnio, así como la interfaz HfAlO / Si, desempeñan un papel muy importante para la optimización de dispositivos CMOS. Para este estudio se utilizaron técnicas ópticas complementarias. La elipsometría espectroscópica VUV y la espectroscopía infrarroja (FTIR-ATR) proporcionan una caracterización precisa del grosor de la película delgada y las propiedades ópticas cerca y por encima de la banda prohibida.

Size: 1,86 MB

Folleto UVISEL 2 VUV