化合物半导体

化合物半导体使得先进功率器件与有源光子器件(如光源和探测器)的制造成为可能。此类器件的成功制备,依赖于底层材料(SiC、AlGaN、GaN、GaAs、InGaAs等)的高质量,以及在晶圆衬底上精确沉积预设几何结构的工艺能力。

材料中的缺陷(如几何结构不完美)会对良率产生不利影响,通常还会增加化合物半导体器件的成本与开发时间。

化合物半导体的光致发光特性

应用领域:显示器、LED、激光二极管、量子阱

材料:GaAs、InGaAs、InP、InGaN、GaP

  • 杂质检测
  • 外延层生长均匀性
  • 带隙的测定
  • 平均应力测量(残余)

GaAs晶片的PL图像显示出不均匀性

基于InGaAs的多量子阱结构的PL图像

InP基晶片上InGaAsP层的PL图像显示出不均匀性

宽带隙半导体的拉曼/光致发光表征

应用领域:功率器件

材料:氮化镓(GaN)、碳化硅(SiC)、氧化镓(Ga2O3)

  • 平均应力测量
  • 晶体结构
  • 掺杂水平(或掺杂浓度)
  • 载流子浓度

SiC晶片的拉曼图像显示了不同的晶体形态

SiC晶片掺杂分布的拉曼图像

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