Applications

阴极荧光光谱测定定位合成CVD金刚石薄膜中的荧光缺陷

The defect density can be evaluated from the intensity image obtained by CL measurement.

The crystal may seem to be uniform in the SEM image, but the dark spot such as the threading dislocation can be observed when measuring the CL intensity image at the wavelength (362nm) which corresponds to the band edge emission.

蓝宝石衬底上生长的GaN晶体中容易出现线位错。据说这是由蓝宝石和GaN的大晶格错配引起的。

在SEM图像中,晶体看上去是均一的。但在测量与带边沿发射相对应的波长(362nm)处的CL光强成像时,可以观察到暗斑,如线位错。

从CL测量得到的光强成像可以评价缺陷密度,如线位错。

应用文档下载:

相关产品

R-CLUE
R-CLUE

拉曼光致荧光与阴极荧光

H-CLUE
H-CLUE

多功能高光谱阴极荧光

F-CLUE
F-CLUE

紧凑型高光谱阴极荧光

留言咨询

如您有任何疑问,请在此留下详细需求信息,我们将竭诚为您服务。

* 这些字段为必填项。

Corporate