光致发光绘图和成像系统-LabRAM Evolution-PL

光致发光(PL)是一种用于提供半导体材料的电学、光学特性信息的光谱技术,可以研究带隙、发光波长、结晶度和晶体结构以及缺陷信息等等……

PL成像系统是一种基于激光的仪器,利用能量超过材料带隙宽度的光源激发材料,测量材料的发光辐射,从而在整个半导体基片上获得某些参数的分布图像。

HORIBA Scientific公司的PL成像系统被应用到批量生产线上,提供有关外延生长层的晶体质量、成分和均匀性等重要信息。

HORIBA Scientific公司的PL成像系统也被应用于获得元件或纳米线的光致发光图像,并且可用于诸如拉曼光谱仪之类的配置中。

 

采用不同的探测器,每个系统都可以在深紫外(~200纳米)到红外光谱(几个微米)范围内测量光致发光谱和拉曼光谱。