一个表征平台能否同时揭示光学行为和晶圆级均匀性？

在本文中，研究人员利用 HORIBA UVISEL PLUS 研究级经典型椭偏仪对生长在蓝宝石基板上的 Cr₂O₃外延薄膜进行了表征。通过结合先进的多层建模、双折射分析、Tauc–Lorentz 色散拟合以及自动 XY 台映射技术，该系统能够全面评估薄膜质量。

薄膜厚度、粗糙度、光学常数和光学带隙均得到了精确测定，而空间成像则揭示了样品表面从中心到边缘的分布变化以及工艺的可重复性。本研究展示了 UVISEL Plus 如何将椭圆偏振光测量结果转化为可操作的洞察，使研究人员和工程师能够充满信心地优化先进光学涂层。