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椭圆偏振光谱仪表征可重写光盘上GeSbTe薄层

The NIR range contains the most important information to analyze the different GeSbTe structures.

Five different samples with increasing thickness of GeSbTe were characterized. The samples are composed of the phase-change layer containing s GeSbTe alloy deposited onto a dielectric layer of SiO2, the substrate of c-Si. Sample 1 exhibits interference fringes in the visible; samples 2 to 5 exhibit the same experimental data in the visible and FUV range.

相变光存储技术多用于CD和DVD可重写光盘。信息是通过局部激光诱导加热薄膜层,引起相变从晶体态转化为非晶态,导致其光学反射率发生变化。

目前相变可重写光盘主要采用两类相变材料,一类是GeTe-Sb2Te3(这里简称GeSbTe)或四元AgInSbTe合金。材料的选择取决于应用的需求。

由于多层膜系的力学、光学和热特性受到整个层结构的影响,因此准确测量其厚度和光学常数至关重要。椭圆偏振光谱法可以快速、高精度的测得这些性质。

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