UVISEL PLUS椭圆偏振光谱仪

UVISEL PLUS-HORIBA

研究级经典型椭偏仪

光谱范围从FUV到NIR:190-2100nm

UVISEL Plus椭圆偏振光谱仪为先进薄膜、表面和界面表征提供了模块化和性能的优化组合。

UVISEL Plus作为一款高准确性、高灵敏度、高稳定性的经典椭偏机型,它采用了PEM 相位调制技术,与机械旋转部件技术相比, 能提供更好的稳定性和信噪比。光谱范围从190nm到2100nm。

UVISEL Plus集成了全新的FastAcqTM快速采集技术,可在3分钟以内实现高分辨的样品测试(190-2100 nm),校准仅需几分钟。基于全新的电子设备,数据处理和高速单色仪,FastAcq技术能够为用户提供高分辨及快速的数据采集。FastAcq专门为薄膜表征设计,双调制技术可以确保您获得优异的测试结果。

相位调制技术的独有特点为高频调制 50 kHz,信号采集过程无移动部件:

  • 测试全范围的椭偏角,Ψ (0-90),Δ (0-360)
  • 从FUV到NIR具有优良的信噪比
  • 数据采集速度快,高达50毫秒/点,是动力学研究和在线测量的理想选择

 

相比于采用 旋转元件调制的传统椭圆偏振光谱仪,UVISEL Plus的相位调制模式在表征薄膜方面具有更高的灵敏度和精度。它不仅可以探测到其他椭偏仪无法观测到的极薄膜或界面,还可以表征50µm的厚膜。

在测试有背反射的透明样品时,测试简单、准确,无需刮花背面。

UVISEL Plus还设计有多种附件及可选功能,便于客户根据应用需求及预算选择合适的配置。比如,微光斑用于图案样品、自动变角器、自动样品台等。

UVISEL Plus采用模块化设计,可灵活扩展。即可用于离线台式测量,也可以耦合于镀膜设备做在线监控。

UVISEL Plus可根据习惯选择操作界面,一个是 DeltaPsi2  具有建模和拟合处理功能;另一个是 Auto-Soft 用户导向的全自动样品测试界面 ,工作流程直观,易于非专业人士操作。

UVISEL Plus搭载FastAcq技术是材料研究和加工、平板显示、微电子和光伏领域中优选通用光谱型椭偏仪。

UVISEL Plus是材料科学研究的理想工具。

事业部: 科学仪器
产品分类: 椭圆偏振光谱仪
制造商: HORIBA France SAS

产品优势

  • 高精度和高灵敏度
  • 模块化设计
  • 宽光谱范围: 190-2100 nm
  • 集数据测量、建模和自动化操作为一体的软件包

 

获得的信息

  • 膜层厚度,从1Å到50 µm
  • 表面和界面粗糙度
  • 光学常数 (n,k) ,适用于各向同/异性和渐变层
  • 光学特性如:吸收系数α, 光学带隙Eg
  • 材料性能:合金成分、孔隙率、结晶度及形貌等
  • 穆勒矩阵
  • 退偏

UVISEL 规格

  • 光谱范围:标配190-885nm,可扩展至近红外2100nm
  • 检测系统:高分辨率光谱仪配合高灵敏探测器

 

 手动配置

  • 光斑尺寸:0.05 – 0.1 – 1 mm(针孔)
  • 样品台:直径150mm,手动调节高度(20mm)和倾角
  • 卡位量角器:手动调节角度,从55°到90°,步径5°

 

 自动配置

  • 光斑尺寸:0.05 - 0.1 - 1 mm或0.08 - 0.12 - 0.25 - 1.2 mm(针孔)
  • 自动样品平台:200 x 200mm或300 x 300mm,手动调节高度(4mm)和倾角;XYZ样品台,theta平台
  • 自动量角器:自动调节角度,从45°到90°,步径0.01°

 

 集成型量角器

  • 手动调节入射角度,从35°到90°,步径5°
  • 样品台:直径150mm,手动调节高度(20mm)
  • 自动准直系统(可选)
  • 尺寸: 25cm*21cm*35cm

 

 在线配置

  • 机械适配器:CF35或KF40法兰
  • 易于在在线和离线配置间更改

 

 选配

  • 附件:冷热台、液体样品池、电化学反应池、反射模块(测试0°入射的反射率)等
  • 可视化:CCD摄像机

 

性能

  • 准确度:Ψ= 45°±0.01°和Δ=0°±0.01°,空气对射1.5 - 5.3 eV
  • 重复性:NIST 1000Å SiO2/Si (190-2100 nm),d±0.1%,n(632.8nm)±0.0001
UVISEL相位调制椭偏仪表征DNA传感器垫
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本文中研究的样品是安装在硅片上的DNA传感器层,通过氧化物层将传感层连接到硅片上。连接子和DNA传感器层之间的折射率对比非常小,需要非常高灵敏度的设备进行测试。
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本文研究的样品是在厚金层上沉积了一层35个碱基片段的DNA硫醇,尽管这个实验可以在空气中测试,但在生物传感器环境中可以更准确的表征嫁接的DNA和不同分析溶液间的期望相互作用。UVISEL相位调制型椭偏仪非常适用于此类敏感性和选择性动力学研究及相互作用的定量。
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TFT-LCD显示面板基于非晶硅和低温多晶硅技术,因而椭圆偏振光谱可以高精度的表征TFT-LCD显示面板。UVISEL椭偏仪的灵敏度和DeltaPsi 2软件中所含的先进建模功能,可实现多层堆叠中不同方法制备的a-Si的表征。此外,椭偏仪还可以获得多晶硅薄膜中晶粒的尺寸,准确表征硅的结晶度。
椭圆偏振光谱仪表征封装有机发光二极管器件
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相较于LCD技术,OLED的优势在于宽视角、响应时间、功耗低、颜色饱和度更高,也可以更快地制造。然而OLED器件暴露在空气和水中会退化,需要在环境中密封。传统保护OLED的方法是在一个充满惰性气氛和干燥剂的金属或玻璃盖。 椭偏仪是测量多层膜厚度和光学常数(n,k)的一种标准光学表征技术,已成功的表征封装OLED器件。 本文还研究了OLED的老化过程,对三个有机发光二极管进行了表征。研究了α-NPD薄膜1个月的老化过程,发现薄膜的折射率显著降低,说明材料的密度在降低。
OLED-有机发光二极管
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椭圆偏振光谱法是一种高精度表征完整OLED的优异技术。它可以测定薄膜厚度、光学特性和掺杂对活性层的影响。HORIBA FF-1000椭偏仪可以实现产线上大面积平板的高通量测定。样品可接受尺寸达1000mm x 1000 mm。这种高精度自动化薄膜计量工具为在线生产质控提供了可靠性。
椭圆偏振光谱仪表征有机半导体的光学特性
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椭圆偏振光谱是一种无损光学薄膜测量工具,用于测定膜层厚度和光学常数(n,k)。该技术广泛应用与微电子、平板显示、光电子、光伏、照明、光学及功能材料、生物技术等领域。与其它光学计量设备相比,椭偏仪的独特优势在于其操作简单,测试精度高,通过光学常数表征获得物理和材料信息。
椭圆偏振光谱仪表征等离子体显示面板
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对于多层结构,了解每层膜的性质非常必要。HORIBA UVISEL椭偏仪采用简单的流程来研究完整PDP结构的厚度和光学性质。为了提高产品的质量和数量,HORIBA FF-1000椭偏仪可以实现产线上大面积平板的高通量测定。样品可接受尺寸达1000mm x 1000 mm。这种高精度自动化薄膜计量工具为在线生产质控提供了可靠性。
椭圆偏振光谱仪表针TFT-LCD显示器特性
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相位调制椭偏仪是一款表征TFT-LCD器件的高精度技术。不仅可以获得薄膜厚度、光学特性,还可以获得更复杂的特性,如梯度、各向异性及掺杂剂的影响。在平板行业中,降低制造成本,需要依赖可靠的测量工具控制工艺的不同阶段。椭偏仪作为一款无损高精度测试技术,非常适用于质控和在线生产监测。
椭圆偏振光谱仪表征不同类型的纳米粒子及建模
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UVISEL椭圆偏振光谱仪已被用于多种纳米粒子的表征。表征涉及到DeltaPsi 2软件的特定建模开发。本文介绍了椭偏仪在纳米颗粒样品表征中的应用,说明椭偏仪可以应用于大量材料科学领域。HORIBA提供的UVISEL型椭偏仪结合DeltaPsi 2软件,具有独特的建模功能,为您在现代物理领域的研究工作提供支持。
椭圆偏振光谱仪研究C60和C70薄膜的光学特性
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椭圆偏振光谱仪测定了C60和C70薄膜在0.6~6.5eV(即190-2100nm)的光学常数。光学尝试提供的信息可以更好的了解这种材料的电子结构。
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本文成功的利用椭圆偏振光谱仪表征了掺杂和未掺杂的金刚石层的厚度和光学性质。椭偏仪非常灵敏,可以有效区分掺杂层和未掺杂层。此外,还检测到了两层间界面。椭偏仪灵敏度高可以提供广泛的信息,是表征材料光学和结构特性的优选技术。
椭圆偏振光谱仪表征无定型碳层的厚度及光学常数
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UVISEL椭圆偏振光谱仪是表征无定型碳薄膜厚度和光学常数的理想工具,即使膜层很薄也可以实现,还可以获得粗糙度和界面“附着力”。
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椭圆偏振光谱是高精度表征可重写光盘上GeSbTe多层膜体系厚度和光学常数的有效手段。结果表明,近红外波段对这类材料的分析有较好的准确度。多样品分析减少了薄层的参数相关性和误差。DeltaPsi 2软件包含的建模功能够处理衬底两侧镀膜的情况,使得分析变得简单。
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