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利用椭偏仪成功的对非晶硅和低温多晶硅面板进行了无损表征。设备采用HORIBA椭偏仪,测试光谱范围1.5~5eV,测试入射角为70°。
利用椭偏仪获得TFT-LCD器件的厚度和光学常数,同时研究了多晶硅材料的晶粒尺寸。
硅材料的光学常数极其依赖工艺条件。非晶硅的光学特性通常采用Tauc Lorentz或DeltaPsi 2软件材料库中的新无定型色散公式进行计算。
多晶硅通常由c-Si和a-Si的混合物使用有效介质近似模拟,通过测定层内材料的组成获得结晶度。
TFT-LCD显示面板基于非晶硅和低温多晶硅技术,因而椭圆偏振光谱可以高精度的表征TFT-LCD显示面板。UVISEL椭偏仪的灵敏度和DeltaPsi 2软件中所含的先进建模功能,可实现多层堆叠中不同方法制备的a-Si的表征。此外,椭偏仪还可以获得多晶硅薄膜中晶粒的尺寸,准确表征硅的结晶度。
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