光栅
全息离子束刻蚀Lamellar光栅
HORIBA Jobin Yvon的全息离子束刻蚀Lamellar光栅的超低杂散光水平，使其成为同步辐射和软X-光波段应用的理想选择。这些光栅的条纹直接刻在基底上，因此可以承受很高的热负载，可以用于第三代同步辐射光源的光束线仪器中.
全息离子束刻蚀加工工艺，可以用于大多数高质量的抛光基底材料，包括:
- 单晶硅
- 熔融石英
- 化学气相沉积SiC
HORIBA Jobin Yvon生产全息离子束刻蚀平面光栅，球面光栅，超环面光栅。同时可以设计制造出不同的光栅线密度（如等间距，像差矫正或者变间距）分布，以适应不同的应用需要.
等光栅线密度:
通过两束平面波前干涉，在光栅基底的长度方向上产生均匀的光栅线密度分布.
像差矫正线密度:
通过两束球面波前干涉，在光栅基底的长度方向上产生非均匀的光栅线密度分布。非均匀的光栅线密度分布可以矫正光学系统的特定像差.
变线密度:
可变线密度光栅的线密度是通过多项式来定义。这种光栅一般用在同步辐射光束线上，以便消除光栅单色器的离焦像差。HORIBA Jobin Yvon和同步辐射实验室合作，开发了专门的软件工具，用于计算全息记录光学系统的几何参数。这使HORIBA Jobin Yvon有能力设计和生产出具有任意多项式线密度变化的变间距光栅.
典型的技术指标
- 材料：单晶硅
- 面型误差：=0.7 μrad
- 表面粗糙度：<0.5 nm
- 边缘：5mm
- 占空比：0.5 - 0.6
- 占空比公差：±10%
- 槽深：9 - 200 nm
- 槽深公差： ±10%
- 膜层材料：Pt 或 Au 或 Ni
如果用户有特殊的需要，请与HORIBA Jobin Yvon的代理联系.
- 光栅槽型的三维图（原子力显微镜）
