全息离子束刻蚀Lamellar光栅

全息离子束刻蚀Lamellar光栅

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HORIBA Jobin Yvon的全息离子束刻蚀Lamellar光栅的超低杂散光水平,使其成为同步辐射和软X-光波段应用的理想选择。这些光栅的条纹直接刻在基底上,因此可以承受很高的热负载,可以用于第三代同步辐射光源的光束线仪器中.

全息离子束刻蚀加工工艺,可以用于大多数高质量的抛光基底材料,包括:

  • 单晶硅
  • 熔融石英
  • 化学气相沉积SiC

HORIBA Jobin Yvon生产全息离子束刻蚀平面光栅,球面光栅,超环面光栅。同时可以设计制造出不同的光栅线密度(如等间距,像差矫正或者变间距)分布,以适应不同的应用需要.

等光栅线密度:

通过两束平面波前干涉,在光栅基底的长度方向上产生均匀的光栅线密度分布.

像差矫正线密度:

通过两束球面波前干涉,在光栅基底的长度方向上产生非均匀的光栅线密度分布。非均匀的光栅线密度分布可以矫正光学系统的特定像差.

变线密度:

可变线密度光栅的线密度是通过多项式来定义。这种光栅一般用在同步辐射光束线上,以便消除光栅单色器的离焦像差。HORIBA Jobin Yvon和同步辐射实验室合作,开发了专门的软件工具,用于计算全息记录光学系统的几何参数。这使HORIBA Jobin Yvon有能力设计和生产出具有任意多项式线密度变化的变间距光栅.

典型的技术指标

  • 材料:单晶硅
  • 面型误差:=0.7 μrad
  • 表面粗糙度:<0.5 nm
  • 边缘:5mm
  • 占空比:0.5 - 0.6
  • 占空比公差:±10%
  • 槽深:9 - 200 nm
  • 槽深公差: ±10%
  • 膜层材料:Pt 或 Au 或 Ni

如果用户有特殊的需要,请与HORIBA Jobin Yvon的代理联系.

光栅槽型的三维图(原子力显微镜)
光栅槽型的三维图(原子力显微镜)