HORIBAは半導体製造プロセスにおけるDry、Wet、Lithographyの各プロセスや研究開発、品質管理、純水から排水までのユーティリティに向けて幅広く製品を提供しています。
長年の経験を通じて培った独自の分析・計測・制御技術によるソリューションでお応えいたします。

材料評価

Materials Analysis

ラマン分光分析装置
(次世代半導体材料の評価)

Device Analysis

カソードルミネッセンス測定システム
(化合物半導体の評価)

製造工程

Dry Process

マスフローコントローラ
(エッチング工程での精度向上)

Wet Process

薬液濃度モニタ
(各種薬液の高精度な測定)

Lithography

異物検査装置/異物除去装置
(露光工程での品質向上)

品質管理/排水処理

Utility/Wastewater

pHメーター/現場形工業用水質計
(工場での適切な純水/排水管理)