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露光工程は、フォトマスク上に描かれた回路パターンを、極端紫外線(EUV) や深紫外線(DUV)などの光を照射することで、ウェハ上に転写させるプロセスです。フォトマスク上に異物があると、転写後の回路の不良につながり、歩留りに大きな影響を与えます。フォトマスクの製作工程から半導体の露光工程に至るまでの異物管理で歩留まり向上に貢献する製品を提供しています。
レティクル異物検査装置
プラズマ発光モニタ
ラマン分光 分析装置
全自動薄膜検査装置
分光エリプソメータ
X線分析顕微鏡
薬液濃度モニタ