マスフローモジュール
チャンバ間のばらつきを抑え、エッチング装置の歩留まりを最適化するためのさまざまな流体制御モジュールや終点検知・プラズマ監視用のスマートセンサを提供しています。コンパクトでロバスト性が高く、研究開発にも量産工場にも使用できます。
プラズマエッチングプロセスの終点をリアルタイムに検知することは、歩留まり向上に必要不可欠です。プラズマ発光モニタはその終点検知に用いられる一般的な手法です。プラズマ発光モニタ EV 2.0は、高性能な分光器とロバストなエンドポイントアルゴリズムで低開口率ウェハの終点を検知できます。
レーザー干渉計 LEM Seriesは、浅いトレンチから深いトレンチまで、トレンチの深さのモニタリングに適した干渉計です。適切な波長を選択することにより、さまざまなアプリケーションに使用でき、エッチングの深さがデバイスの特性に影響するレーザーダイオードのような光デバイスの加工にも適しています。
レーザー干渉計
LEM Series
レーザーガス分析計 LG-100 Seriesは、半導体製造におけるエッチングプロセスから発生するSiF4 (四フッ化ケイ素) の分圧変化をリアルタイムに測定します。この変化量から、エッチングが規定の深さ (エンドポイント)まで到達しているかどうかを判別できます。HORIBAが独自開発した赤外ガス分析技術「IRLAM(アーラム)™」を搭載し、ppmレベルの微量なガスをダイレクトに、0.1秒以下の高速応答で測定できます。これによりアンダーエッチングおよびオーバーエッチングのリスクを軽減し、半導体製造プロセスの生産性や歩留まり向上に貢献します。
*赤外レーザ吸収変調方式（IRLAM™: Infrared Laser Absorption Modulation）
*IRLAMは、株式会社堀場製作所の登録商標または商標です
マスフローコントローラは、流体の質量流量を計測し流量制御を行う機器で、半導体プロセスをはじめ、高精度な流量計測・制御を要求されるプロセスにおいて幅広く使用されています。CRITERION™ Seriesの最新機種としてデジタルマスフローモジュール D700の開発により、さらなる顧客満足度の向上をめざします。
0.1秒以下の立ち上がり応答
高速応答・高精度マスフローモジュール D700MG
チャンバ内ガス置換時間の短縮は、高速・連続プロセスで重要な課題です。高速応答・高精度マスフローモジュール D700MGは、高速バルブ駆動回路と新制御アルゴリズムを搭載し、業界トップクラスの0.1秒以内での高速立ち上がり制御を実現しました。これにより、チャンバ内ガス置換を短縮し、生産性向上と装置稼働率改善に貢献します。
1:1000 ワイドレンジ制御
ワイドレンジマスフローモジュール D700WR
従来では、同一ガス種のガスラインにおける大流量・小流量制御にマスフローコントローラ（MFC）が1台ずつ必要でした。ワイドレンジマスフローモジュール D700WRは、フルスケール流量の0.1%から広範囲制御を実現し、MFC2台から1台への集約が可能になりました。MFC台数削減とガスラインの効率化により、多種類ガス使用による性能向上とコストダウンに貢献します。
小流量の高精度化
マイクロフローマスフローモジュール D700uF
先端デバイスのエッチングプロセスでは、5 SCCM以下の微小なプロセスガス流量の化が歩留まりを大きく左右します。マイクロフローマスフローモジュール D700uFは、 業界最小レベル0.025 SCCMの精密制御を実現しました。専用部品と新開発の流量基準器により重要ガスを高精度計測・制御し、性能向上とプロセス安定化に貢献します。
